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V01．29
第29卷专刊 应用光学 Sup．
2008年12月 Journalof Optics Dee．2008
Applied
文章编号：1002—2082(2008)S0-0119-04
AFM刻蚀光栅的研究
张英堂，周光茜，赵 东
(西安工程大学理学院，陕西西安710048)
摘要：利用原子力显微镜(AFM)的纳米刻蚀功能在光盘材料表面进行了刻蚀实验，制备了
具有5个条纹的原刻光栅。在迈克耳逊干涉仪上进行了5条纹原刻光栅的衍射实验，得到了衍
射图案，为制备原刻光栅找到了新的途径。
关犍词：光栅；刻蚀；AFM；衍射
中圈分类号：TN205 文献标志码：A
on AFM
Studygratingsculptureby
ZHANG Guang—xi，ZHAODong
Ying-tang，ZHOU
ofMathand University，Xi’an710048，China)
(Dept Physics。Xi’anPolytechnic
of was outwiththeAFM
Abstract：Theonthesurface discmaterialcarried
sculpture compact
nanometer function，andthefive are toforman
lithography stripslithographedoriginalgrat—
inter—
diffraction forthe was withMichelson
five-stripgratingperformed
ing．The experiment
ferometerandthediffractionisachieved the new
pattern throughoriginalgrating．Aapproach
to an wasfound．
prepareoriginalgrating
Keywords：grating；lithography；AFM；diffraction
引言 成，其尖端具有纳米尺度，比较坚硬。利用质地
光栅是一种重要的不可或缺的光学元器件之 相对较软的透明材料作基底，“针尖”可以在基底
一，尤其在光学仪器和传感器领域有广泛应用。 上刻出纳米级深度的长条状“凹槽”。由于光散射
长期以来原刻光栅都是用机械方法刻画制备，设 的缘故所刻出的凹槽是不透光的，可作为遮光条
备复杂，费时费力，所以原刻光栅十分昂贵。原 纹，未刻蚀部分可视为透光狭缝。在特定软件控
子力显微镜(AFM)的出现为制
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