CVD工艺中气体流型地研究.pdfVIP

2792 功 能 材 料 2004 年增刊 （35 ）卷 CVD 工艺中气体流型的研究 ∗ 汪飞琴，苏小平，鲁泥藕 （北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司，北京 100088 ） 摘 要：化学气相沉积 （CVD ）法可制备高纯度、近 2 界观CVD 工艺中气体流型的模拟 似元件形状、大面积的块体材料，与制备薄膜的CVD 过程相比，该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀 流体流动的机理十分复杂，目前还没有完全掌握 性及光学质量均匀性等问题。本文采用简化装置对 其规律，模拟实验常常是解决流动问题不可少的方 CVD 工艺过程进行物理模拟，探讨不同工艺参数下 法，如流体机械的模型实验、飞机的风洞实验等，这 沉积室内部气体流型的变化，分析流型对沉积过程的 些实验都是以相似性原理为基础。相似性原理指出： 影响。 为使模型流动表现出原型流动的主要现象和特性，并 关键词：化学气相沉积；体材料；稳定性；均匀性； 能从模型流动上预测原型流动的结果，必须使模型流 流型 动和原型流动保持力学相似关系。所谓力学相似，是 中图分类号：TQ 11 文献标识码：A 指模型流动和原型流动在对应点上对应物理量都有 文章编号：1001-9731 （2004 ）增刊 一定的比例关系。包括几何相似、运动相似和动力相 1 引 言 似[9] 。 依据相似性原理，我们设计了一个与我们在用的 化学气相沉积是近几十年发展起来制备无机材 CVD 沉积炉按一定比例缩小的简化装置。装置的结 料的新技术。早期被广泛用于提纯物质、研制新晶体、 构简图如图1 所示，为增加实验的可视性，外罩和沉 沉积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料[1,2] ，近 积室采用透明度高的石英玻璃制成，其它部件均采用 年来，CVD 法又开拓了块体红外光学材料制备的新 耐腐蚀材料制成。整个装置具有良好的气密性，使用 领域。该法可制备高纯度、大尺寸且近似于元件形状 一台离心真空泵抽真空，真空度可达到 10Pa 以下。 的样品[3~5] 。但与制备薄膜的CVD 过程相比，该过程 选用水蒸汽和 TiCl4 作为反应气体，二者均采用 Ar 中存在长时间沉积稳定性、沉积厚度均匀性、沉积表 气按一定的比例进行稀释。模拟实验的反应方程式如 面平整性以及同条件下沉积过程重复性等一系列技 下： 术难题。CVD 沉积室内反应气体的流型是控制不同 2H O+TiCl =TiO +4HCl ↑ 2 4 2 组分气体向沉积表面输运的关键，是影响沉积均匀 该反应在常温下即可发生，反应生成的 TiO2 为白色 性，沉积产物质量的重要因素。早在20 世纪七八十 雾状颗粒，其运动轨迹可清晰的显示出沉积室内的气