多弧离子镀制备TiN%2fNi纳米复合超硬膜地研究.pdfVIP

机械装备结构材料与表面技术研讨会 577 多弧离子镀制备TiN／，Ni纳米复合超硬膜的研究 郑国龙 王从曾 穆静静 黄建斌 北京工业大学材料科学与工程学院北京 100022 摘要：采用多弧离子镀技术，通过改变Ni靶电流和开启的时间，在高速钢基体上沉积出不同Ni含量的nN／Ni复合膜涂层， 膜的超硬机理。结果表明：随着Ni含量的增加，晶粒逐渐细化并达到纳米级尺寸，膜层硬度与Ni的含量密切相关，当Ni 含量达到1．4at％时，硬度最高，达到47GPa。 关键词：多弧离子镀mN，Ni纳米复合膜纳米晶超高硬度 O 引言 新型超硬薄膜材料TiN具有优异的物理、化学性能及广阔的应用前景而引起人们的普遍关注。大量的 研究表明TiN是一种容易晶化的硬质涂层材料，具有高熔点、强抗蚀性、高稳定性的优点，是目前被研究最 多的薄膜材料之一【l吲。自70年代以来，科学家纷纷采用各种方法合成T烈薄膜，其中利用物理气相沉积 (PVD)在高速切削刀具上沉积TiN涂层，可显著提高其机械强度与寿命，引人瞩目14J。然而随着推广应用的 深入和镀膜技术的刁i断发展，人们逐渐认识到TiN涂层的不足之处，其