- 1、本文档共4页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
一种sine型慢波结构的研究.doc
文章编号:
一种
程兆亮,
(电子科技大学物理电子学院,微波电真空器件国家级重点实验室,成都 610054)
摘 要:
关键词:
中图分类号: TN124 文献标志码: A
1 sine型微带曲折线慢波结构模型
Sine型微带曲折线模型如图1所示。其中介质基板厚度为h,长度为a,采用介电常数为9.8的氧化铝材料;空气框高度为d;sine微带线的振幅为b;微带线宽度为w,厚度为t,系统周期为p。
Fig.1 Modal and dimensional parameters of sine-shaped microstrip meander-line SWS
图1
2 高频特性仿真
我们
由图2可以看出,sine型微带曲折线慢波结构相比于直角型,色散稍弱,带宽更宽,耦合阻抗相当。
Fig.2 Dispersion characteristics and interaction impedance of the two SWSs
图1
由图3-6可知,随着b的增大,归一化相速减小,频率下降,耦合阻抗变化不大;介质基板长度在b的2倍左右时对高频特性的影响不大;介质基板的厚度h增大,归一化相速增大,色散变强,耦合阻抗增大;随着微带线厚度t增大,归一化相速增大,耦合阻抗增大。同时我们知道,微带线的厚度增加,高频系统的反射变强,传输特性变差,综合考虑以上尺寸的影响以及对系统注-波互作用的影响,应该根据实际要求选择合适的结构尺寸。
Fig.3 Dispersion characters and interaction impedance versus a
图3 色散特性和耦合阻抗随a的变化
Fig.4 Dispersion characters interaction impedance versus b
图4 色散特性和耦合阻抗随b的变化
Fig.5 Dispersion characters interaction impedance versus h
图5 色散特性和耦合阻抗随h的变化
Fig.6 Dispersion characters interaction impedance versus t
图6 色散特性和耦合阻抗随t的变化
利用CST仿真软件的微波工作室模块[11],可以对sine型微带曲折线慢波结构的传输特性进行仿真,如图3所示,采用同轴过渡,通过仿真可以得到系统的S参数,如图4所示。
由图6可知,系统的S11在20GHz到37GHz小于-20dB,S21在20GHz到40GHz大于-1dB。
3 结论
参考文献:
[1] J. Kennedy and C. Colombo, “Development of a low voltage powerbooster TWT for a Q-band MMPM,” IEEE Trans. Electron Devices, vol. 48, no. 1, pp. 180–182, Jan. 2001.[2] A.W. Scott, Microwave generator with interleaved focusing and interaction structures. U. S. Patent, 149191, 1971-7-2.
[3] 张大勇,冯进军,等. 微带型曲折慢波结构冷测特性的计算机仿真[J]. 电子器件, 2006,29(4):1223-1226. (Zhang Dayong, Feng Jinjun, et al. The cold-test characteristics simulation of microstrip meander-line slow-wave structure[J]. Electron Devices, 2006,29(4):1223-1226.
[4] Wei Yanyu, Shen, et al. A novel V-shaped microstrip meander-line slow-wave structure, China Patent 201 010 227 284.X, Nov. 24, 2010.
[5] Shen Fei, Wei Yanyu et al. Cold-test characteristics simulation of a V-type microstrip meander-line slow-wave structure. Proceeding of 2010 8th International Vacuum Electron Sources Conference and Nanocarbon, Nanjing, China, Oct
您可能关注的文档
最近下载
- 投标人对保证工程质量及详细的质量违约处罚措施的承诺;.doc
- 2023年深圳市南山区第二外国语学校小升初分班考试英语模拟试卷及答案解析.docx
- 华东理工大学《多元统计学》2020-2021学年第二学期期末试卷.pdf
- 主题班会成功无捷径 学习当奋斗(课堂PPT).ppt
- 习概 推进依法治国.docx VIP
- 安徽大学-2020-2021学年第-一-学期大学英语A试卷及答案.docx
- 常见创伤分类与现场急救(1).ppt
- DENON天龙AV接收机AVC-X8500H产品说明书.pdf
- 中学英语教研组校本研修活动记录.doc
- 河北工业大学2022-2023学年第2学期《高等数学(下)》期末试卷(A卷)附标准答案.pdf
文档评论(0)