活性屏离子渗氮过程中的粒子形貌与结构研究.pdfVIP

第六届全目表面工程学拳会议 兰州 2006年8月 活性屏离子渗氮过程中的粒子形貌与结构研究 赵垂￡，赵慧丽，侯俊英 青岛科技大学等离子体表面技术研究所，青岛，266061 摘要：活性屏离子渗氮是依靠从活性屏上溅射下来的活性粒子沉积在工件表面，利用这些粒子进行 渗氮处理。通过对不同条件下收集到的粒子分析研究发现，活性屏离子渗氮是按着溅射一吸附一脱 附一扩散等步骤分阶段进行，粒子在活性屏离子渗氮过程中只是起着渗氮载体的作用。 关键词：活性屏离子渗氮；溅射粒子；“吸附一脱附”模型 1．前言 上世纪9 ScreenPlas腿 o年代末，卢森堡工程师Georges发明了“活性屏离子渗氮，技术(Active 理效果，而且还较好地解决了DcpN存在的一些难以解决的问题，如工件打弧、空心阴极效应、工 件温度测量等问题，所以ASPN技术一问世就受到了极大重视。目前欧洲几家大型热处理公司已引 进这项技术，取得了很好的经济效益。 在活性屏离子渗氮过程中，被称为活性屏的铁制笼子起到两个作用：一是在离子轰击的作用下 笼子被加热，在笼子热辐射的作用下将工件加热到所需要的处理温度；二是从笼子表面溅射下来的 粒子沉积在工件表面，通过这些纳米粒子进行渗氮处理。本文将对在不同条件下收集到的粒子表面 形貌和晶体结构进行分析研究，以进一步探讨ASPN的渗氮机制。 2．试验方法 图1是活性屏离子渗氮试验装置的示意图，活性屏为低碳钢 制的笼子，尺寸为由120眦X100m。样品台与阳极之间用熔铸云 母柱隔开，试样呈电悬浮状态。样品台上放置一块20姗×20m X1蛳的纯铜片用于收集从笼子上溅射下来的颗粒。由于铜既不 吸收氮也不会与氮反应生成铜的氮化物，所以可以认为落在铜片 上的粒子就是落在工件表面最原始的粒子。 试验分别在80％地一20％N2气氛中，铜片采用自然冷却和水 冷却下收集粒子；以及在纯氮气氛中，铜片采用自然冷却收集粒 子。直流辉光放电电压为800V，反应室压强400Pa，样品台温度 图1活性屏离子渗氮试验装置示意图 为550℃，处理时间为4小时。 在高分辩电镜下观察粒子的表面形貌；用x射线衍射仪测定粒子的相结构。 3．试验结果 3．1 缓冷状态下收集到的j懒面形貌及相结构 在80％H2—20％N：气氛中，将铜片置于样品台上收集从笼子上溅射下来的粒子。沉积结束后，铜 片在自然冷却条件下冷至室温。此时粒子的表面形貌呈多边形，粒子尺寸约为300nm左右(图2)。 X衍射结构分析表明这些粒子为FetN(图3)。 64l 第六石佥圈表面工租学和套议 兰州 2006年8月 图2缓冷条件下收集的粒子表面形貌 图3缓冷条件下收集的粒子的结构 3．2急冷状态下收集到的粒子表面形貌及相结构 在80％H：一20％N2气氛中，将铜片置于水冷样品台上收集从笼子上溅射下来的粒子。此时粒子的 8000 T000 ㈣ 三5000 ：4000 三$0(30 l∞0 图4急冷条件下收集的粒子表面形貌 图5急冷条件下收集的粒子的结构 3．3纯氮气氛中收集到的粒子的表面形貌及相结构 无法进行渗氮处理，此时粒子呈条状(图6)，粒子主要是由Fe，0·组成(图