烧结型钕铁硼磁性材料电沉积非晶态Ni-P合金镀层地研究.pdfVIP

烧结型钕铁硼磁性材料电沉积非晶态N卜P合金镀层的研究 马成炳，曹发和，张昭·，张鏊清，曹楚南 (浙江人学理学院化学系，杭州310027) 摘要： 研究r钕铁硼磁体表血NiP镀层的直流电沉积过程并优化了电沉积工艺参数，同时采用SEM／EDX等多种 技术对优化的镀层结构和性能进行了表征。结果表明：优化的Ni P镀层表面平整光亮、与NdFcB肇体结合牢周且具 具有非晶态结构及其良好耐蚀性的主要缘因。 关键词： 钕铁硼：电沉积NiP；非晶态 钕铁硼磁性材料具有较高的性价比，然而其较差的耐蚀性限制了其应用范围【l，2】。在钕铁硼的 众多防护技术中，其表面镀覆f3—5】，特别是非晶态Ni．P合金镀覆技术f6卜一真是人们关注的热点。非 晶态NiP镀层可以用化学镀和电沉积两种方法制各，其中电沉积法简单、能耗少、成本低且易于控 制。然而，目前关于钕铁硼磁性材料表面的非晶态NiP镀崖的电沉积研究少见文献报导。奉文在采 取合适的|；{『处理丁艺的基础上，在钕铁硼磁性材料上电沉积制备了兼具较高装饰与防护性能的非品 态Ni P合金镀层，并采用多种测试手段对镀层进行了表征。 1实验方法 本实验所用的是已退磁的烧结型钕铁硼(规格为中10minx6mm)，其质量组成为60．63％Fe、35％ T作电极一研磨一清洗一除油一热水洗一冷水洗一酸洗一冷水洗一活化一冷水洗一电沉积一千燥一 性能测试。电沉积的工艺条件如1曲．1所示。 Table1．NiP电沉积的镀液组成及沉积条件 NiS04．6H20 131 NiCl2．6H20 16 }驷q 30 H3P03 10～30 N却C羽，07．2Hz,O 0．1 AdditiveA alittle pH 1．5∞．5 风 0．”．5A／din2 T 30～70℃ ofsolution 600 speed Rotaan8 rpm 2结果与讨论 在对钕铁硼基体进行合适的镀前处理后，通过优化Table1所示的电沉积T艺参数，获得钕铁硼 基体表面的苷品态Ni-P镀层的稳定的优化电沉积工艺(Dk=l 为209／L)。 镀层表面光亮平滑、均匀致密且孔隙率小，没有明显的晶界面(Fig．2a)：同时，镀层与钕铁硼基体 之间具有良好的结合力口ig．2b)。为了探明镀层非晶态的成因，采用EDX对镀层组成进行了分析， 发现镀层主要含有Ni和P，其中磷含量大于15wt．％。因此，较高的P含量是导致Ni-P镀层具有非晶 态结构的主要原冈。 The diffraction ofthesurfaceofNi-P Ftg．1 X-ray CXRD)pattern depositedsample surface electron ofthe andcrogssectionofNi-P FI导2seamingmicroscope(SEM)mierographs depositedsample． section (a)20000x，(b)tⅡO