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半导体工艺化学 基础部分 作者：张虎嵩编 出版日期：1983 • 目录 • 绪论 第一章 化学基本量 • §1-1 摩尔 • §1-2 气体的摩尔体积及其计算 • §1-3 气体状态方程式 • §1-4 摩尔浓度 • §1-5 当量和当量定律 • §1-6 反应热 • 复习题 • 第二章 原子结构和元素周期律 • §2-1 原子的组成 • §2-2 元素周期律和元素周期表 • §2-3 核外电子的排布 • §2-4 元素的性质和原子结构的关系 • 复习题 • 第三章 分子结构 • §3-1 化学键 • §3-2 极性分子和非极性分子 • §3-3 晶体结构 • §3-4 分子间作用力氢键 • 复习题 • 第四章 化学反应速度和化学平衡 • §4-1 化学反应速度 • §4-2 反应活化能 • §4-3 影响化学反应速度的因素 • §4-4 化学平衡和化学平衡的移动 • 复习题 • 第五章 电离理论 • §5-1 电解质的电离 • §5-2 同离子效应和缓冲溶液 • §5-3 水的电离与溶液的pH 值 • §5-4 盐类的水解 • 复习题 • 第六章 络合物 • §6-1 络合物的概念 • §6-2 络合物的价键理论 • §6-3 络合物在半导体工艺中的应用 • 复习题 第七章 氧化还原反应电化学 • §7-1 氧化还原反应 • §7-2 氧化还原当量 • §7-3 原电池 • §7-4 电极电位 • §7-5 电解和电镀 • 阅读材料 • 复习题 • 第八章 有机化学基础 • §8-1 链状烃 • §8-2 芳香烃 • §8-3 烃的衍生物 • 复习题 第九章 有机高分子化合物 • §9-1 有机高分子化合物的概念 • §9-2 烯类的高聚物 • 复习题 • 隐藏目录