真空镀膜蒸镀塑料件的工艺.docVIP

真空镀膜蒸镀塑料件的工艺 1， 来料检查； 2， 干燥，待真空镀膜镀件来料时含较多水分，需干燥处理3-5h，温度为50-60oC； 3， 上架，一般注塑时基本按真空镀膜生产，因此待真空镀膜镀件表面一般油污较少经过一般的擦拭就可上架，但是来料油污多时需进行去污处理。方法是用清洁剂逐件刷洗，漂洗，烘干。油污严重时还需用清洗剂在50-600C，浸泡15-20min进行脱脂处理； 4除尘，这道工序是保证真空镀膜镀膜质量的关键之一，方法有两种：一种是用吸尘器对准待真空镀膜镀件仔细地除尘，另一种是用高压其“吹尘”的方法； 5涂底漆，涂底漆是保证真空镀膜镀膜质量的关键之二； 6烘干，涂漆流平后需进行干固处理，方法有红外线加热法，电热加热法及紫外线(UV)固化法等，固化温度为60-700C，固化时间为1.5-2.5h； 7真空镀膜，真空镀膜是保证真空镀膜镀膜质量的关键。 真空镀膜的镀膜操作：待真空镀膜镀件上架并装上钨丝，然后入炉，检查接触是否良好，转动正常，关真空镀膜真空室，抽真空。 真空镀膜蒸发镀铝，作为装饰膜真空镀膜蒸铝时的真空镀膜真空度控制在(1-2)X10-2Pa，真空镀膜蒸发采用快速蒸发可减少氧化概率，又不会使真空镀膜膜层的组织结构变粗。 冷却充气，真空镀膜蒸铝以后，即可充气出炉； 8涂面漆，保护真空镀膜的金属膜层，为着色工作做准备； 9着色，面漆彻底固化后可进行染色处理。 沈阳中卓真空镀膜技术有限公司 发表于：2010-09-28 11:13:21 真空镀膜设备有关问题答复 1. 建议参照生产量掌握真空镀膜设备靶材厚度的消耗情况: 前提: 真空镀膜设备靶材厚度相同。 比如目前贵厂主要是规格为1.7mm厚的海绵真空镀膜设备镀膜,相信目前已经明确大约生产多少平米时该换靶材，其他规格以此类推。 2. 真空镀膜设备靶材厚度是根据磁场、电场、强度以及板材标准厚度等来确定。 可选厚度最佳范围：磁场、电场、强度三者综合指标来确定厚度最佳范围。 选用不同厚度的真空镀膜靶材时要注意调节极靴的位置。 3. 延时开真空镀膜室门的原因 海绵厚度小于1.5mm时:由于溅射功率较低,,真空镀膜完毕可立即开门。 海绵厚度大于1.5mm时:由于真空镀膜设备溅射功率较高,真空镀膜室内温度比室温高得多,不允许真空镀膜完毕立即开门,目的如下: a. 真空镀膜室温度比室温高得多时,膜淀积后在真空镀膜室内进行适当的保温,使膜内部结构稳定,表面形成一层极薄的钝化膜,使新淀积的膜尽量不暴露或少暴露于大气中。 b. 真空镀膜室温度比室温高得多时,膜淀积后立即开门,人无法操作。 4.在海绵能够镀透,其性能能满足要求的前提下,尽量采用较低的功率,以使海绵基体的温度不致过高并且省电,海绵基体的温度与功率成正比,功率过大会造成海绵碳化,谈不上产品质量 ZZ-560型射频磁控溅射真空镀膜设备 一、 用途及特点 1. 为单室立式结构的高真空多功能真空镀膜设备，射频磁控溅射真空镀膜、直流磁控溅射真空镀膜的组合，既能满足各类膜层的实验研究，又能减少射频辐射的机会，当溅射金属材料时，可采用直流磁控溅射真空镀膜;当溅射非金属材料时,可采用射频磁控溅射真空镀膜. 2. 可真空镀膜膜层:金属单质膜(如Al、Ni)、合金膜、氮化物膜、碳化物膜、氧化物膜、其它非金属化合物膜. 二、 主要技术指标和外部设施要求 (一) 技术指标: 1. 真空镀膜室型式: 立式圆筒形、间歇工作 2. 真空镀膜室尺寸: φ600×400 3. 极限真空度: 5×10-3Pa 4. 压升率: ≤2Pa/h 5. 靶数量: 2个 6. 靶功率: 单靶2KW 7. 加热温度: 室温~150℃ 8. 工件最大尺寸: 垂直方向最大尺寸≤100mm 9. 总功率: 25KW （二）外部设施要求: (用户自备) 1. 电源: 380V 2. 气源: 压缩空气: 净化干燥,使用压力0.4~0.6Mpa 高纯氩气: 99.999% 高纯氮气: 99.999% 其它气体 3.冷却用水 压力: 1.5~2.5Kg/cm2、水温＜20℃ 4.占地面积: 20m2 三、 主要组成部分:真空镀膜室、真空系统、充气系统、气动系统、水路系统、电控系统 1.真空镀膜室 真空镀膜真空室体、靶装置、传动系统、加热器、观察窗、靶挡板机构、隔热屏、放气阀. 1).真空镀膜室体:为立式园筒形侧开门不锈钢结构. 2).靶装置:靶体及其零部件、磁体、屏蔽罩 靶型式:园形平面靶 靶面有效尺寸:φ120