低雷诺数下的绕正方形排列的顺排的四个圆柱的流动的探究.pdfVIP

中国工程热物理学会 流体机械 2002年学术会议 编号：027033 低雷诺数下的绕正方形排列的顺排的四个 圆柱的流动研究 onthecrossflowaroundfour inanin·line Study cylinders at low numbers squarearrangementReynolds 李景银 西安交通大学能源与动力工程学院710049 K．LainkT．Chart ． R．M．C．So 香港理工大学机械系 电{舌 8砚9-2668723 E-mail jyn@mail．xjtll．edu．cn t- 摘要 本文通过采用激光诱导荧蓑技术(LIF)对低雷诺数下的绕正方形捧列的顺捧的四 个圆柱的层流流动进行了流动可视化研究。同时，在Re=200的情况下，对该流场进行 了PIV流场测量，两者吻合良好。可是，采用两维有限体积法离敷N-S方程计算该流场 却无法与实验结果符合，原因尚不清楚。 1前言 绕圆柱的横流绕流在工程上是十分常见的。由于绕多个圆柱流场的相互干扰以及这 种干扰的强非线性，绕两个及多个圆柱的流动结构和流谱将与一个的有极大的区别。 绕两个圆柱的流动之间的干扰是研究多个圆柱之间干扰的典型问题，其中，两个圆 柱并列捧列以及前后捧列又是两种特殊的捧列方式，因此，对这两种捧列的流动研究 是非常多而且比较全面的．绕并列捧列的两个圆柱的流动的特殊现象是当两个圆柱的 间距小于2倍的宜径时，完全对称的结构却引起了不对称的流场，腰个圆柱的尾迹一个 大一个小，并且，在有些情况下，这两个大小不同的尾迹还会交换位子(Bemamn矗 ef 膏adeoek。1973：Guillaume1．aRue。19∞：Sumneral。，19∞)。同时，对前后 捧列的两个圆柱的流场研究发现。当前面的圆柱的自由剪切层刚好在下游圆柱的后面 卷起的时候，下游圆柱竟然受到向前的推力．Zdravkovich(1987)总结了大量的实验 研究，提出将流动干扰分为三类。既尾迹干扰，相近干扰和这两种干扰的组合。 正方形捧列顺捧的四个圆柱可以看成是两个并捧捧列或者前后摊列的两个圈柱的组 合。同时，正方形捧列腰捧的四个豳柱也是非常常见的一种基本捧列单元，但是，相 对绕两个圆柱的流动而言，对该流动的研究是非常少的(Sayer(1驰8)；Lain和 Fang(1995))．然而，L∞量Lo11992)在Re：2100对该捧列的研究发现，在中等 eta1． 间距比下，上游的自由剪切层总是不时地向一边倔斜．另一方面，Farrant (2∞o)采用边界元法离I陵N-s方程，在g手200和阃距比等于3和5时对该捧剜进行了两维 etal(2∞1)采用表面涡方 的数值计算，发现在每个豳柱的后面都有旋涡脱落．Lain 法也得到同样的流动图谱．可是，在实验方砸却没有相应的数据可以对比． 本文将采用激光诱导荧光技术研究绕正方形捧列的顺捧的四个圆柱的流动图谱 以及各个涡之间的相互干扰，并采用PIV技术测量该流场的速度和涡量分布，以便为数 177 值计算提供基本的数据作为对比。同时，也采用了有限体积法离散N—S方程对该流场进 行了两维计算。 2实验设备及仪器 该实验