纳米SiC诱导纳米薄膜工艺地研究.pdfVIP

纳米SiC诱导纳米薄膜工艺的研究 牛朝霞，张昭·，张鉴清，曹楚南 (浙江人学理学院化学系， 杭州310027) 摘要： 本文通过直流电沉积技术制备了纳米结构的Ni．SiC复合薄膜。首先，通过盐舔加法测褥SiC纳米粒了在pH 2～14范罔内均呈负电性，凶此利用添加阳离子表面活性剂和机槭搅拌的方式对纳米粒子进行分散，获得了良好的效 果。用s删进行r初步表征，得到了整体纳米结构复台薄膜。另外，奉文还提出了siC纳米粒子诱导整体纳米结构 Ni-SiC复合薄膜的合理假说。 关键词： 纳米粒子；零电荷电位；电沉积；纳米复合薄膜 l前言 相对于传统的多晶和非晶薄膜材料，纳米结构薄膜具有优异的机械、生物、物理、化学和电化 学特性，因而在MEMS(Micro-electro-mechanical system)、催化、防护等诸多领域中具有广阔的应 用前景【l一6】；同时，纳米结构薄膜的研究也是纳米特性研究的重要基础之一【5】。另一方面．山于电 化学方法可以通过对电极材料和电解液的选择及对电极电位的调控等，选择性地得到具有符种化学 组成、相组成和微观结构的材料·相对于纳米结构薄膜的其它制备方法(如：sol-gcl)具有独特之处【7】； 而复台电镀技术也已经在材料制备中得到了广泛的应用。因此，具有优异性能的纳米结构复合薄膜 的电沉积研究，必将引起了国内外广大科技工作者的普遍关注。 2实验方法 在上述研究的基础上，选择合适的表面活性荆对 Table conditionsforNi--SiC 纳米SiC粒子进行表面化学修饰，同时采用外加 1．Elcctroplating coatings 机械搅拌提高纳米siC粒子在Ni镀液中的分散性 能。通过正交试验和单因素实验对Ni—SiC纳米 复合镀工艺进行优化。Ni—sic纳米复合镀的镀 液组成和工艺条件如1曲．1所示，所有试剂均为分 析纯级。电镀基体为黄铜，对电极为大面积Pt片。 3结果与讨论 可以看出，在pH2～14范围内，ApH都是小于零的。由此可得出，在这个pH范围内，SiC都是 带负电性的。因此，我们选择阳离子表面活性剂埘纳米 ■ SiC粒子进行表面修饰。Fig．2是在不含和含有SiC纳米粒 了的Ni镀液中且其它T艺条件相同的条件下得到的Ni ■ J ／ 和Ni．SiC镀层的SEM扫描电镜图。从Fig．2可以看出 Ni—SiC复合镀层较纯Ni镀层平整光亮，且前者的表面颗 粒大小均匀。Fig．3是Ni-SiC放大10万倍的扫描电镜图 _ ， ◆一 广 一 片，从这张图可以很明显看出颗粒大多是纳米尺寸的，复 合薄膜不仅晶粒细小，而且组织均匀细密。 Plots forSiC Fig．1 ofApHⅦ．initialpn Fig．2SurfacemorphologiesofpureNi(A)andNi-SiC㈣naao-compositecoatings 众所周知，金属(Cu)基体表面存在有 许多活性点(如：缺陷)。当进行化学修饰 后的SiC纳米粒子加入Ni镀液以后，其将在 电场力和强制对流力的作用下到达基体表 面，从而与Ni2+在基体表面竞争活性位、引 起阴极极化并增加阴极表面活性点的数目。 在电沉积早期，由于每一个Ni晶核周围的 Ni浓度扩散区没有重叠、