高能离子注入聚酰亚胺薄膜表面结构的探究.pdfVIP

电子显微学报JChinElectrMicroscSoc 2l(5)：65l～6522002年 651 高能离子注入聚酰亚胺薄膜表面结构研究 陈锡花，唐国翌，周惠华，朱静 p (清华大学材料科学与I程研究院，北京100084)缈p 聚合物材料除了具备密度小、易成型、耐腐蚀、 成本低的优点外，其薄膜或器件经不同条件离子束 处理后的机械性能、化学性能和物理性能(如表面硬 度、摩擦阻力、抗腐蚀能力、导电能力等)有不同程度 035rim，025nm，021nm，0．12nm。高分辨像中发现 的提高”。，在核技术与宇航技术中，离子束改性聚 了不同取向的微晶，见图2。有些区域不属于类金刚 合物材料的抗环境能力已备受关注，尤其是表面超 石晶体，而是与文献中的／3-C，N4相吻合。结合前期 硬耐磨聚合物材料的制备及机理研究是近年来材料 工作可推测：高能He+离子的注入，引起大量羰基氧 研究的热点之一。 失去，N几乎无损失，说明大分子链不仅断裂后产生 根据文献和本课题组的研究工作得知，聚酰亚 交联反应，也发生链的转移，从而形成新的C．N键。 胺(Kapton)在离子注入前后，电阻率由10”0M“降一方面，交联反应形成了离域形共轭大71键，另一方 低到3×10’5nM～；硬度由0．55GPa提高到6．7GPa， 面，形成了cN：微晶，这些都可使Kapton的耐磨性、 在球盘式磨损实验机上用滚珠钢球或尼龙球做耐磨 硬度和导电率提高。随着He+离子注入能量的提 性实验，注入离子达最佳剂量时，钢球表面被严重磨 高，分子链断裂增加，碳化加剧(非晶碳增多)，薄膜 H 损，而改性聚合物材料无明显磨损。EalLee报 材料硬度虽更高，但薄膜离子注入层老化严重，韧性 道，Kapton在离子注入前后的透射电镜选区电子衍 降低，注入层与未注入层间易开裂，表面层在摩擦过 射(SAED)没有差别，都是漫散射环，而注入前样品 程中易产生碎裂，结果材料整体性能降低。在超薄 的x一光衍射结果显示有部分结晶。造成这种差别 切片实验和摩擦磨损后的扫描电镜观察中都证实了 的原因是电子束辐照损伤产生的非晶化。另有报 这种现象的存在。 导，生物大分子(c。N6心)作为离子束溅射靶材，在无 参考文献： 其它氮源参与的条件下，获得了日一C，N．多晶膜，这 G 是由于靶材分子中C—N六元环与8．c，N。结构相[1]RaoR，BlauPJ，LeeEH 似，利于CN，的成核、生长和结晶的缘故”。J。 222 Y Nuclearinstruments＆methodsin 【2J O research Wang physies 本文主要是应用透射电镜研究了Kapton(C…H。 sectionB—beaminteractionswithmaterialsand atoms，2000， N：O，)。经氦