多孔Ti%2fBDD电极的制备条件探索.pdfVIP

第女月全国环境化学大台 环境监d及毒理 多孔Ti／BDD电极的制备条件探索 孙见蕊1，林海波1‘”，李红东2”，陆海彦1，鲁晶2 吉林大学化学学院长春130012；2吉林大学超硬国家重点实验室长春130012； EmaiLlhb91()@7luedu硎) 3吉林大学环境与资源学院长春130012 众所周知，高质量的掺硼金刚石(BDD) 薄膜具有较宽的电化学窗口，较低的背景电 流以及较强的抗腐蚀性，这使得它在电分 析、电解氧化等方面都有着广泛的应用。 BDD薄膜一般被沉积在平板s1，Ta，Nb，W， Ti和其他金属或半导体基体上[1]，这些BDD 电极已经被广泛研究和应用。但是如果我们 可以制备出多孔BDD电极，那么将可能制备 具有高比表面积的多孔BDD电极，提高电流 效率。 钛基体是良好的电极基体村料，导电性 好，机械强度高，价格低。多孔钛具有较大 的表面积，然而BDD薄膜在多孔钛上沉积是 非常困难的，因为n羹体和BDD薄膜之间存 在着较大的应力口]，而且n基体和BDD薄膜 之间形成TiC导致n基体与BDD薄膜间的结 合力受到很大影响。 这里报告了一种在多孔钛上沉积制备 掺硼金刚石薄膜电极的新方法。在电极制备 (b) 的过程中通过改变沉积过程的硼源浓度，即 目1钛基体和BDD电极的扫描电镜目(a)多孔 由高硼浓度到低硼浓度(2一B)的变换方法， 钛基体的整体形貌；(b／在多孔钛基体上沉积得到 提高了多孔BDD电极的稳定性。电极的形 的金刚石薄膜插图放大的钛基体和多孔BDD电 貌用SEM表征，如图1所示。实验结果表 极的形貌。 明，在多孔钛上所制备的BDD薄膜可以完 整的覆盖在多孔钛基体的表面和孔的内部， 参考文献 XM“alPerfonnmlceTi／BDD 并且晶粒分布均匀连续，没有裂缝或孔洞出 【1】Chert High ElecnodesforPollutraitOxidationEnvironScl 现。 Teclmol200337：5021{026 本研究为国家自然科学基金(No G 【2】GergerI，ttaubnerR，KronbergerH，Fafilek 助项目。 ofdiamond ontitmlil】IIl Investigation coatings substratesforelectrochemical D㈣ applications RelatMater．200413