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溴代酞菁铜衍生物薄膜的折射率和吸收特性.pdf
第 卷 第 期 光 学 学 报 ,
年 月 ,
文章编号: ( )
溴代酞菁铜衍生物薄膜的折射率和吸收特性!
),) ) )
吴谊群 顾冬红 干福熹
( ),中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 )
),黑龙江大学化学化工学院,哈尔滨
摘要: 通过旋涂法在单晶硅片上制备了一系列含有不同数目溴取代基的酞菁铜衍生物:一溴代 四烷氧基酞菁铜
( ),二溴代 四烷氧基酞菁铜( ),四溴代 四烷氧基酞菁铜( )和无溴代 四烷氧基
酞菁铜( )薄膜,利用同步旋转起偏 检偏器( )型的宽谱扫描全自动椭圆偏振光谱仪测定了上述薄膜
的椭偏光谱,获得了该系列薄膜的复折射率、复介电常数和吸收系数,研究了溴取代基对酞菁铜衍生物薄膜光学性
质的影响。
关键词: 溴取代基;酞菁铜衍生物;薄膜;偏振光谱;折射率;吸收系数
中图分类号: 文献标识码:
引 言 谱扫描全自动椭圆偏振光谱仪测定了一系列含有不
同数目溴取代基的酞菁铜衍生物:一溴代 四烷氧基
酞菁铜衍生物因其分子环平面由四个异吲哚单
酞菁铜( ),二溴代 四烷氧基酞菁铜
位互连形成,为离域的 !电子共轭体系,具有优异
( ),四 溴 代 四 烷 氧 基 酞 菁 铜
的热学、化学稳定性和结构的可修饰性,近年来引起
( )和 无 溴 代 四烷 氧 基 酞 菁 铜
[,]
广泛关注 。它们独特的光学和半导体特性,使
( )旋涂膜的椭圆偏振光谱;获得了该系
之成为新型的光电子薄膜材料,在有机光波导、非线
列薄膜的复折射率,复介电常数和吸收系数,研究了
[ ]
性光学和光存储等方面具有广阔的应用前景 。
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