扫描电位沉积Bi-Pt合金与其电催化性能的研究.pdfVIP

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2017-08-14 发布于安徽
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．——．。．——————————．————．———————————J——，—————．．————————．————，————．!!!!!!!!!——．———————————————————．————．————．——————————，————————————一扫描电位沉积Bi-Pt合金及其电催化性能的研究袁定胜+，陈俊智，刘应亮暨南大学化学系，广东广州510632 铋主要应用在低熔点合金和冶金添加剂，铋合金用在半导体元件上起致冷作用．金属铋既具有共价键，又具有金属键特性，这种结构使铋具有一系列特殊的物理化学性能”】．近年研究报导了金属铋及其合金有一些特殊的光学、磁学、电学性能【2棚。铋铂合金具有良好的电催化性能，可应用于催化电极和传感器15,61。铋的盐在水溶液中很容易生成碱性铋盐，形成沉淀，造成金属铋离子在溶液中显著下降，通常用盐酸或是高氯酸来抑制碱性铋盐的生成．如果用电化学的方法来沉积铋，镀层受析氢影响严重，而且镀液不稳定。我们采用有机体系进行电沉积铋钳合金膜，因无水可避免生成铋氧化物和析氢的影响，且镀液稳定．实验中采用试剂均为分析纯，在高纯N2气氛下，采用三电极体系进行电化学测试和电沉积．JSM．6330F XD．2 场发射扫描电子显微镜用于观察合金膜的表面形貌。MSAL X射线粉末衍射仪分析物相的构成。沉薯--_f芑害=U ．o．4旬．6旬．8-1．0-1．2．’．4 P口b删引，V 图1沉积体系在铂电极上的循环伏安曲线图2沉积体系在铜电极上的循环伏安曲线 Ona Linar Fig．1 Cyclicvoltammograms 01Ia Pt∞．03era2)Fig．2 sweepvoltammogramsCu(0．07cm2) electrodeinthe L．1 L’1 electrodein the L-1 L。1 17．5349 Bi(N03)3．1．3919 17．5349 Bi(N03)3．1．3919 L．】 H2PcCi6·6H20-20ralL—N(CH2CH20H)3．DMSOH2PtCi6·61420-20mL N(CH2CH20H)3．DMSO v：50mVs．1 system v：50mVs‘1 system 图4 图3Pt-Bi合金膜的XRD图(o-Pt,·-Bi，▲-Cu)Pt-Bi合金膜的SEM图 XRD ofPt-Bi Fig．3 spectrum 4 SEM ofPt-Bi aitoyfilm(O-Pt，·-Bi，▲-Cu)