磁流变抛光与磁流变液原理与研究现状.pdfVIP

磁流变抛光与磁流变液原理与研究现状.pdf

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
磁流变抛光与磁流变液原理与研究现状.pdf

磁流变抛光与磁流变液:原理与研究现状 高 伟,魏齐龙,李晓媛,王 超,汤光平 (中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所,四川绵阳 621900) 摘 要:磁流变抛光液是磁流变抛光的“刀具”,是磁流变抛光技术的核心之一。简要介绍了磁流变抛光技 术的原理与特点,重点对磁流变抛光液的本征研究工作进行梳理和总结。分别对磁流变抛光液中双相颗粒的分 散及表征,零磁场及磁场作用下流变行为与模型,颗粒受力以及磁流变抛光液与工件表面的作用机理等方面进 行 了分析和总结;重点分析了磁流变抛光液在磁场作用下颗粒的受力情况以及与工件表面物理作用和化学作用 的耦合机制。提出了研究磁流变抛光液的三个基础性问题,展望了磁流变抛光液的研究趋势并在此基础上提 出 了研究路线图,为磁流变抛光液的进一步设计、制备及应用提供参考。 关键词:磁流变抛光液;原理;模型;研究现状 中图分类号:TB381 文献标识码:A 文章编号:1001.3830(2015)02—0068.06 M agnetorheologicalfinishingandmagnetOrheOl0gical fluid:principleandresearchsituation GAOWei,WEIQi—long,LIXiao—yuan,WANGChao,TANGGuang-ping InstituteofMachineryManufacturingTechnology,ChinaAcademyof EngineeringPhySics,Mianyang62190China Abstract:Asamagnetorheologicalfinishing(MRF)tool,magnetorheologicalfinishingfluid(MRFfluid)isone ofitscoretechnologies.Thepaperelaborated advantagesandworkingmechanism ofMRF,and thenthepresent situationnadresearchfieldswereanalyzed.Two—phaseparticlesdispersionsandchraacterization,rheologicalproperties ofsuspensionswithnadwithoutmagneticfield,analysisofforcesonparticleswerereviewedandsummarized.Physical and chemicalinteractionsbetween MRF fluid and workpiecesurface during finishing processnad hteircoupling mechanism wereanalyzedparticulraly.ThreebasicproblemsofresearchingMRFfluidasakindofsmart materialand developingtendencywereproposedna dthentheresearchtechnicalroadmapwasestablished,whichprovidestechn ical foundationsforpreparationnadapplicationsofMRFfluid. Keywords:MRFfluid; principle; model; reserachsiutation 2/10-2/20、表面粗糙度 R5nm (甚至 优于 1引言 0.5nm)[1l。这些高精度的光学零件加工特别是大 现代光学系统对光学元件的制造精度、批量和 口径非球面超精密、超光滑以及高效的抛光,需要 进度都提出了更高的要求 。我国的惯性

文档评论(0)

月光般思恋 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档