溶液插层法制备羧甲基魔芋%2f蒙脱土纳米复合膜.pdfVIP

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溶液插层法制备羧甲基魔芋/蒙脱土纳米复合膜 鲁 俊 肖超渤 武汉大学化学与分子科学学院,湖北,430072 自从日本丰田研究中心首次合成了尼龙-6/粘土的纳米复合材料后,人们制 备研究了一大批聚合物/粘土纳米复合材料[1] 。其机理大多是利用蒙脱土层间阳离 子的可交换进行插层,形成聚合物/粘土纳米复合材料。然而关于天然高分子和 蒙脱土的纳米复合材料的研究并不多见[2] 。天然高分子作为材料具备环境友好, 可生物降解等优势,结构中含活泼基团,但在力学性能,热性能等方面较差,若 能通过与蒙脱土的插层复合形成新材料,则在生物医药等领域具有广阔的应用前 景。魔芋经过羧甲基化后,具备活泼的醚键和羧基,主链上羟基活性也得以释放, 在与蒙脱土的插层时的反应机理值得探讨。 实验部分 [3] 1.羧甲基魔芋(CKGM)的制备 用醇水法 制备CKGM。 2.溶液插层制备CKGM/MMT 复合膜 分别配制一定浓度的 CKGM 水溶液和 MMT 水溶液,然后按 100/0,95/5,90/10,85/15,80/20,70/30,50/50 的重量百分比混合,充分搅 拌后,流延法涂膜,真空干燥得产品。 3.复合膜性能表征 用ATR-IR, DSC, XRD,TEM 进行表征,并进行力学性能测试。 实验结果与讨论 1.XRD 结果与分析 7 . 1 t i n u y r M M T a t i b r 6 . 7 A C K G M 5 6 . 3 C K G M 1 0 C K G M 1 5 5 1 0 1 5 2 θ ( d e g r e e ) Fig.1 The XRD patterns of CKGM/MMT nanocomposites 图1 为MMT 和溶液插层法制备的CKGM/MMT 纳米复合材料的XRD 谱图。 o 在XRD 谱图上MMT 的001 面衍射峰位于7.1 ,对应层间距为1.25 nm,随着 MMT 含量的增加,衍射峰均向小角方向移动,CKGM5,CKGM10 衍射峰位置分 别为6.7o o 和6.3 ,对应层间距分别为1.39nm 和1.43nm,层间距有所扩大,衍射峰 的强度减小。由此说明聚合物分子链进入了粘土层间,但小角处的衍射峰没有完 全消失,表明MMT 还保留其层状有序结构。CKGM15 中衍射峰消失,说明MMT 层间距在 8.8 nm 以上,或者片层已经完全剥离。由此初步断定生成了剥离的 CKGM/MMT 纳米复合材料。 2.TEM 结果与分析 Fig.2 TEM images of CKGM/MMT 图2 是当MMT含量为 15% 时CKGM/MMT 复合膜的透射电镜照片.图中黑色 部分是MMT,白色部分是CKGM。图中可以可以看到

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