弯月面涂胶及其胶厚均匀性的测量.pdfVIP

第 26卷第 1O期 强 激 光 与 粒 子 束 Vo1．26，NO．10 2014年 1O月 HIGH POW ER LASER AND PARTICLE BEAM S 0ct．，2O14 弯月面涂胶及其胶厚均匀性的测量 林继平 。， 梁榉曦 ， 刘正坤 ， 王庆博 ， 宝剑光 ， 洪义麟 ， 付绍军 (1．中国科学技术大学 国家 同步辐射实验室，合肥 230029； 2．安徽大学 物理与材料科学学院，合肥 230601) 摘 要 ： 为实现大面积基片的均匀涂胶 ，设计组装 了一台小型弯月面涂胶样机 ，实验 了200mm×200 mm基片的涂胶 。利用 白光干涉光谱仪扫描测量 了弯月面涂胶 的胶厚分布 ，其胶厚均匀性峰谷值偏差低于 5 。对弯月面涂胶系统引起的均匀度偏差做了初步分析研究，并对 比了测试系统与经校准 的台阶仪胶厚测量 结果 ，偏差小于 0．8 。 关键词 ： 弯月面涂胶 ； 大面积涂胶 ； 白光干涉 ； 胶厚测量 ； 均匀性 中图分类号 ： TN305．7； TN307 文献标志码 ： A doi：10．11884／HPLPB2O1426．101017 惯性约束聚变 (ICF)激光驱动的装置中需要大面积脉宽压缩光栅 (PCG)和光束采样光栅 (BSG)等光学元 件l[1]，目前 的实验光路中主要使用的光栅的尺寸是 430mm ×350mm，未来随着 ICF工程 的推进 ，必须使用 1000mm×400mm 以上的光栅。大面积 PCG和BSG等光栅 目前都采用全息曝光法制作 ，全息法制作光栅过 程 中均匀涂胶是不可或缺的环节 。传统的涂胶工艺主要有旋涂、提拉和喷涂等方法，旋涂法采用旋转甩胶工 艺 ，能满足涂覆 430mm×430mm 的基片均匀性等参数的要求 ，这已经达到其涂覆范围的极限，更大面积的基 片涂覆将面临着夹持和均匀性控制的难度 ，提拉和喷涂也很难控制胶厚的均匀性_5]。 弯月面涂胶技术最早由SimonL．Chu等于 1977年提 出 ]，其涂胶原理同浸入提拉法相似。Swapan等研 究了不同涂覆物质在不同基底上的弯月面涂覆工作，用滚筒状狭槽涂敷器在玻璃和硅片上涂覆厚度在 7～27 m聚酰亚胺类物质；在印刷线路板和玻璃上涂覆厚度 2～45 m 的NT90型光刻胶l7；弯月面涂覆还可以使 用环氧树脂类和可溶结晶聚合物等涂覆到玻璃、硅基和金属材料等基底上，涂覆的膜层厚度在亚 m到几十 m范围L7]。Scsalpha公司的弯月面涂胶系统能够有效控制 2～5O m 的光刻胶 、聚酰胺和掺杂剂等的涂覆 。 更值得注意的是美国利弗莫尔实验室 (LLNL)的Britten等将 300nm 的光刻胶均匀涂覆在 15cm 宽的基底 上 ，为大面积光栅制作奠定了基础_1“]。弯月面涂覆厚度依赖于涂覆物质的沉积系数 、基片扫过涂覆器速率和 涂覆物质与基片表面的特性等因素 。 。相比于旋涂等传统工艺，弯月面涂胶有如下优势：(1)涂覆物质利用 率高，损耗少 ；(2)效率高；(3)坏点少；(4)适用于大面积涂胶 ；(5)胶厚均匀 。本文针对大面积涂胶工艺的需求 ， 试制了一台小型弯月面涂胶机，并在 200mm×200mm 的石英基片上均匀涂胶 ，采用白光干涉光谱分析法建 立了一套测量系统 ，分析了弯月面涂胶的均匀性 。 l 弯月面涂胶原理及装置 弯月面涂胶机主要由胶盒 、涂覆器、泵和基片组成，其涂胶原理如图1所示 。涂覆器呈水平放置 ，顶端开有 沟槽 ，当输入的光刻胶注满了涂覆器管道后 ，光刻胶就会在输送泵的压力下沿着长沟槽 向上均匀涌 出，涌出的 光刻胶落回到胶盒中。当需要涂胶时，根据涂胶 的参数需求 ，涂覆器升高到距离待涂覆基片的一个合适高度 (几百 m)，使得沟槽涌出的胶沿着槽线的方向均匀接触到基片。基片是 由夹持装置固定 ，待涂胶面朝下 ，涂 覆器连同胶盒 (也可基片运动)速度均匀地扫过基片，基片上就会因表面张力作用而涂覆上一层均匀的光刻胶 。 这种涂覆系统涂覆器涌出的胶会形成一个弯月面形态 ，所以称其为弯月面涂胶法 。 所涂光刻胶的厚度 ()为 ￡()一[s()a()77()]。 (1) 式 中：m为基片编号 ；s(Ⅲ)是涂覆器涂