先学元件超声清洗工艺的研究.pdfVIP

第24卷第7期 V01．24，No7 2 2012年7月 HIG强HHI POW激ERL光ASER与AND粒PARTI子CLEB束EAMS Jul_，201 女章■日 IOOI一4322(2012)07-176l-04 光学元件超声清洗工艺研究 王刚，马平，邱厦民，胡扭川，鄂定尧 ＆##$№{I《Ⅲ￡十0．m#610041 #ⅢF4*自，*＆目∞*}i#《*自mf6。，*{R目^f1“m∞Ⅸ牲，目F*＆”*{i*Ⅲ* 女自∞#Rn女tnf}I镕‰。 *t自：日≯*＆{#*自，Ⅲ#＆；《}^Rm镕*‰，Ⅲmm#a 28 dol：10 1761 ÷目#粪■：TG356 女*标$日：A 3788／HPLP 薄膜的激光损伤与薄膜微缺陷有着密切的关系，徽缺陷是薄膜产生激光损伤的重要诱因，大多数的激光损 伤都是从薄膜中缺陷点处开始发生并逐渐向外发展的，因此高通量激光装置的光学元件在系统高通量运行时， 光学元件表面留有的杂质污染物，形成杂质缺陷或镀膜后的节瘤缺陷，将导致高抛光度的玻璃或镀膜表面损 伤，降低光学元件的损伤阈值o“，另外光学元件表面残目的有机污染物不仅产生有机吸收和热透镜等效应降 低损伤阈值，也会降低光学7L件膜层的附着力。周此，随着抻光Ⅲ装置更高通量的需求．要求光学元件有更高 的激光损伤阈值，这就要求光学元件具有很高的洁净度。因此，光学元件在加工过程中和镀膜前都需要清净清 洗，保障元件表面高洁净度，提高元件抗澈光损伤能力。为了保证清洗方法在实践加工中切实可行，而且保障 清洗手段对光学元件有高效的洁净能力又不损坏光学元件。近年来，周内外已经发展了诸多新清洗技术．如机 械清洗技术“1、干冰清洗技术”1、激光清洗技术”3、超声渡和兆声波清洗技术o“1等，其巾在光学元件的清洗领 域t超声渡清洗技术作为一种高效、高洁净度的清洗手段开始逐渐替代手工清洗。本文将复频超声波清洗技术 引人到激光装置中光学元件的洁净清洗中，以极大提升光学元件的洁净清洗水平，替代现有手工清洗技术。 1实验条件 根据光学元件表面污染物的物理特性．可 把污#}物分为有机物、复合物污染和无机物污 染。洁净度检测是检验清洗后的元件是否达到 所需洁净度要求的必要手段。洁净度检测方式 可“根据污染物的物料特性选择检测仪器。由 于需清洗的光学元件种类众多。有不同材料、形 状和表面状况，并且和一般的工业清洗件相比 有非常高的洁净度，普通的检验方法难u达到 要求。因此，对于表面无机污染物颗粒情况选 择了50～1000倍的徕卡光学显微镜进行手动 1 Rela‘…KpbeI～n and F1e cl…Ⅻfrequency 扫描式检测；利用光学元件表面的亲水特性，用 sl…foarllcIosthat…b￡cleaned 接触角仪测量的接触角表征元件表面有机污 目1镕‰《$5*＆*№*《#^十∞*{ 染、复合污染物情况．接触角仪的涮量范围为 的表面粗糙度及微观形貌状况。 ：!黯：；；蒜。。摹勰F””” 镕}∞n 26一。 超声清洗效果与清洗液温度及浓度、清洗频率、超声功率等工艺参数密切相关o。”1。超声频率与待清桄的 樗染物颗粒大小有直接的关系超声频率越低，审化气泡越大，清洗污染物颗粒越大，遁声频率越高清洗污染物