化学在半导体硅材料制造业的作用与展望.pdfVIP

· · 吴雄杰等 化学在半导体硅材料制造业的作用与展望 综 述 18 ///////. / . / 综 述 / . / ./////// 化学在半导体硅材料制造业的作用与展望 吴雄杰 饶伟星 （ ） 浙江大学海纳半导体分公司，浙江杭州310027 摘要 针对半导体集成电路行业的迅猛发展，概述了作为半导体工业基础的半导体硅材料 在近 年来的发展状况，着重阐明了当代化学技术及其产品对硅材料制造业发展的重要 20 作用，以及随着硅材料业向更高层次的迈进，给化学化工行业带来的挑战与机遇。 关键词 半导体集成电路 半导体硅材料 化学技术 研磨液 抛光浆 自 世纪 年代以来，半导体材料被广泛应用 现象，致使切速无法提高，耗时较长，工序生产效率 20 60 于各类电子元器件中，其中硅材料以其丰富的资 低下，随着晶体直径的增大，这种限制尤为明显。日、 源、优质的特性、日臻完善的工艺等综合优势而成 美等半导体行业发达国家为此先后引用化学合成技 为当代电子工业应用最多的半导体材料。据统计大 术，研发出一系列专业的优质切削液，它们都具有极 （ ） 约90% 的大规模集成电路 LSI 、超大规模集成电路 佳的湿润性、冷却性及排屑性，并含有能产生机械润 （ ） （ ） 滑作用的化学表面活性剂，有效解决了高速切削中 VLSI 、甚大规模集成电路 ULSI 都是制作在高纯 [ 1 ] 的一系列问题，使切片的速度、成品率大幅提升。 优质的硅抛光片和外延片上的 。近 年来，因迅速 20 增长的有线、无线通讯行业和将是新的经济增长点 ( 2 ) 在研磨工序，新型研磨材料与研磨助剂的出 机，以及一直是 （ ） 现，提高了硅研磨片的表面质量。 的PC IC 集成电路 巨大市场的消 费类整机市场等的持续增长，以致世界各国都看好 随着半导体业的发展，半导体工艺在不断提升， 半导体市场。目前全世界每年消耗大约18 ～ 25 kt 半 也即在硅片表面进行微电路设计时的线宽不断在缩 导体级多晶硅，消耗6 ～ 7 kt 单晶硅 ，硅片销售额大 小。例如，作为当今微电子工业中最具代表意义的 （ ） 约60 ～ 80亿美元。目前半导体硅材料用量平均年增 MOS 动态随机存取存储器 DRAM ，其64 M 电路的 长大约为12% ～ 16% 。同时规格由小直径向大直径 加工线宽为0. 35 µm, 256 M 电路的加工线宽缩小 发展。目前国内硅片以 、 为主流产品，新开项目 到 或 。这就对硅片的表面质量如 4 6 0. 25 µm 0. 18 µm 以 、 为主。 平整度、表面机械损伤等提出了高要求，为满足微米 8 12 1 化学技术及其产品在半导体硅材 及次微米集成电路的制造工艺，现代微电子工业对 料制造中的作用 硅片平整度要求预测见表1。