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3.4%NaCI介质中铁点蚀行为的表面拉曼光谱成像研究”
曹佩根 徐浩元 曹文东 郑军伟 顾仁敖一
苏州大学化学化工系.215006苏州
姚建林 谢泳 田中群
厦门大学固体表面国家重点实验室,化学系,361005厦门
摘要本文利用共焦拉曼光谱技术结台对铁电极的合适的粗糙化预处理,现场研究了34%NaCl腐蚀升
质中铁电极的点蚀行为.获得了点蚀坑内腐蚀产物的表面增强拉曼光谱,成功地将表面增强拉曼光谱技术
拓宽至铁的腐蚀行为的研究中。利用共焦拉曼光谱仪的成像技术研究了位于660∞叫处点蚀产物的二维分
布图。研究表明:在较正电位铁表面发生点蚀后,点蚀坑内腐蚀产物不是以单一物种存在,而是多种铁氧
化合物共存,且这些铁的氧化腐蚀产物的点蚀坑内的分布也极不均匀。
主题词拉曼光谱成像. 铁电极, 点蚀
成及表面腐蚀产物的分布等,进而深人了解其腐蚀机理。本
引 言 工作主要应用表面拉曼光谱成像技术初步研究纯铁在3.4%
NaCI介质中的点蚀行为及其表面腐蚀产物的二维分布。
金属表面钝化膜的形成及其在一定腐蚀介质中的组成的
转化(如形成点蚀)对于深^揭示金属腐蚀与防护的本质和 1实验部分
机制具有重要的意义,传统电化学方法,包括稳态法、暂态
法及交流阻抗技术等均是以整个电极为研究对象,以电信号 1.1试剂与体系
(电位、电流或电荷)为激励和检测手段,通过解释而获得有 采用三电报体系,研究电极为圆柱形铁电极(纯度
关电极过程间接、统计和面积平均的研究信息。这显然难以 99.99%),工作面积0.1矗,其余部分用环氧树脂封装。参
深^研究许多复杂的局部电化学腐蚀体系。七十年代后期兴 比电极为饱和甘汞电极,辅助电极为铂环电极。文中的电极
起的非传统电化学技术,为深入研究金属表面局部腐蚀机理 电位均相对于SEE,实验所用的NaCI为分析纯.溶液用超
提供丁契机,特别是结合电化学技术的现场振动光谱方法可 纯水配制。
在原位条件下,从丹子水平上详细地研究该过程,其中使用 1.2 Raman光谱谢■
较为广泛的是具有极高的表面检测灵敏度的表面增强拉曼光 采用Dilor公司的LabRamI型共焦显徽拉曼系统,采
x3x
Raman 样体积仅为3 3“d,共焦显微镜为50倍的长工作距
谱(S-】rfa,-e-PXlharlCedScattering,SERS)技术。然而.铁
通常被认为是SERS非活性金属,为获得铁表面腐蚀产物的离镜头,所用谱仪狭缝为200耻·,针孔直径为800印h激
发线为632.8
SERS光谱,人们采用了电沉积法。如在SERS活性基底上
的PAR-173型恒电位仪,详细的光谱电化学测量参见文献
电沉积一薄层铁”或者在铁的表面沉积SERS活性银岛
:4]。
等2…。由于SERS活性金属的干扰.有时很难对谱图作出
1.3铁电极的预处理
准确的解释。最可靠的方法是获得纯铁表面的拉曼光谱。
铁电极依次经6#金相砂纸打磨,1扯、0.3pAkq粉
本实验室最近采用台适的表面处理方法并借助高灵敏度
抛光后,用丙酮除油,置于超纯水中超声清洗,后将清洗过
的共聚焦显微拉曼谱仪成功
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