磁控射频溅射Cu掺杂SnO2薄膜的气敏光学特性研究.pdfVIP

第29卷第3期 《陶瓷学报》 Vo1．29，N0．3 2008年9月 JOURNALOFCERAMICS Sep．2008 文章编号：1000—2278(2008)03—0217—04 磁控射频溅射 Cu掺杂SnO2薄膜的气敏光学特性研究 冯金垣 郝延华 (华南理工大学物理科学与技术学院，广州：510641) 摘 要 采用磁控射频溅射的方法 ，在玻璃基片上制备SnO。及其掺杂薄膜。采用AFM和XRD分析薄膜的表面形貌与结构，对掺cu 的SnO。薄膜在常温丙酮气氛作用下，用uV分光光度计进行了气敏光学特性测试，研究结果表明：薄膜在常温下对丙酮气体具有 明显的敏感效应，其反射率在可见光范围的某些波段有20％的变化。 关键词磁控射频溅射，SnO，丙酮气氛，反射率 中图分类号：TB383 文献标识码：A 2 SnO 及其掺杂薄膜制备 1 引 言 选用普通载玻片作为衬底，在7O％的丙酮和30 snO2l薄膜作为电学型气敏材料已经有一段很长 ％的乙醇混合液中浸泡6 7小时以上，连同混合液 的历史，而且已经广泛被利用在可燃和有毒气体的检 一 起用超声波清洗5分钟，依次置于丙酮、乙醇中用 测上。1988年，郑顺旋和Ghiotti等人发现当SnO接 超声波清洗5分钟，用去离子水冲洗，用干净的高压 触还原型气体后，光透射率和反射率随气体的性质及 气吹去水膜 ，在红外灯中烘干待用。薄膜制备在 浓度的变化而变化，即所谓的 “气敏一光学”现象。随 JGP一500型超高真空多靶磁控溅射镀膜机上进行。射 后越来越多人探求二氧化锡薄膜的光学气敏特性，试 频电源频率为 13．56MHz，所用SnO 陶瓷靶纯度为 图将传统的 “气敏一电阻”型传感器发展成 “气敏一光 99．99％。溅射前先将设备抽真空，然后通入高纯 学”传感器。以避免电接触、高温检测、气体选择性差 (99．999％)和高纯 (99．999％)0为溅射气氛。调整溅 等缺点，弥补电学检测的不足，这一领域的研究仍然 射氩氧比为0～l；衬底温度为室温，靶与衬底间距为 刚刚起步。近年来许多人探索二氧化锡掺杂薄膜制备 60mm。靶在正式溅射前先预溅射5分钟以清洁靶材 并研究其气敏光学特性。常用的制膜方法有：溶胶凝 表面和使系统稳定。溅射时间视薄膜厚度而定，一般 胶法 、镀膜法 、喷涂法 、化学气相沉积法 ，这些制膜 在30—60分钟之间，并在500℃温度下退火3O分 法存在膜片过厚并且膜厚难以控制或者膜片表面粗 钟。掺杂SnO薄膜采用多次覆盖溅射的方法制备。 糙缺点，不利于气敏一光学特性的研究。本研究采用 磁控射频溅射制备五层三明治式掺铜二氧化锡薄膜， 3 SnO2薄膜AFM和XRD测试 发现在常温环境中掺杂薄膜对丙酮气氛有明显的反 应，同时发现退火工艺对其性能有着很大的影响。研 3．1AFM测试 究结果预示着二氧化锡掺杂薄膜在常温下实现气敏 采用原子力显微镜(M)对本文所制备的SnO 光学传感是可能的。 薄膜进行测试，测试结果见图l。 从图l可以看到，经过退火处理的薄膜SnO。晶 收稿 日期：2008—06—05 《陶瓷学报》2o08年第3期 218 无退火的 500℃退 火的