纳米压印光刻中的多步定位研究.pdfVIP

第 40 卷 　第 3 期 西 　安 　交 　通 　大 　学 　学 　报 Vol . 40 　№3 2006 年 3 月 　　 　 Mar . 2006 J OU RN AL O F XI′AN J IA O TON G U N IV ER SI T Y 纳米压印光刻中的多步定位研究 刘红忠 , 丁玉成 , 卢秉恒 , 王 　莉 , 邱志惠 (西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室 , 7 10049 , 西安) 摘要 : 在步进重复式压印光刻中 ,为了避免承片台支撑绞链结构间隙及微观姿态调整往返运动导 致的表面材料不规则形变 ,建立了单调 、无振荡 、多步逼近 目标位置的宏微两级驱动系统 ,并提出了 ( ) 径向基函数比例 、积分 、微分 RB FP ID 及单调位置控制算法. 控制结果证明 ,使用具有强鲁棒性 的 RB FP ID 非线性控制模式 ,使得驱动过程呈现无超调 、无振荡的单调过程 ,因此避免了由于系统 微观振荡调节而引入的间隙误差和材料表面形变误差. 此控制方式可使步进重复式压印系统的定 位精度在满足 100 mm 行程驱动的前提下 ,达到小于 10 nm 的定位技术指标. 关键词 : 纳米压印光刻 ;多步定位 ;非线性控制 ( ) 中图分类号 : T H 112 ; T H 113 1 　文献标识码 : A 　文章编号 : 0253987X 2006 03026 104 Research on MultiStep Positioning f or Nano Imprint L ithography Liu Hon gzhong , Din g Yuchen g , L u Bingheng , Wan g Li , Qiu Zhihui ( St at e Key L aboratory for Manufact uring Sy st ems Engineering , Xi ′an J iaotong U niver sit y , Xi ′an 7 10049 , China) Abstract : In multist ep imp rinting lit ho grap hy p roce ss , t he gap exi stin g in t he hinge s of t he st age st r uct ure an d t he rando m motio n durin g t he st age po sitio n adj u st ment u sually lead to er ror s quit e diff erent f ro m one s in t he t raditional p reci sion po sitioning . To avoid t he se nonlinear error s , a ra dial ba si s f unctionp rop ortional int egral diff erential ( RB FP ID) an d monotony po sition cont rollin g algorit hm i s int ro duced , w hich enable s t he motion locu s to app e