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双相复合生长大直径(中40)碲镉汞晶体
划充岳王金义
f华北光电叠术研究所.北京,1000l卦
【摘要】事z,卜绢』’一坤钎的碲锅震品潍生鹾方法(即顽扭复合生}乇法).详细划述丁谆
方法的生长吼理和兰兰过程:寸圻r该方.三主k过程岛学啊晶体生长的崮誊(生l主温度,温度娣
度、生旌逯睾、园渣界面等).总结j+饭万法品体生硅的优点.井提出了晶体生琵过程中存在的
l萄题和改善晶体生曼的措施;通过采取低甚生氏、低温锑度下慢速生长,生长后慢速冷却和适当
jq品片遢火等措藏,获得j’目前国内外报导直径最丈(040mrm、犬单品面积(4~lOcm二)、径向组
n≤5x10“cm 5xl0,an二~“
盼均匀(^x≤士0003)、光电性能良好’77K下. 3、u。≥l
T≥14s; 300k:0.9ram厚的晶片透过毫T≥i5%)的碲褊求翕体。
关键词:碲铺汞 晶体生长 双褶基台 垂直结晶
一.前言
碲镉汞品津是宙II.Ⅵ族H£、Cd、丁e三元(实为CdTe--HgTe鹰二元)组成
的化台物半导体,是目前公认的一绅最重要的红外探删器材料。由于高灵敏、
高清晰的红外成像系统要求幢用多元、线列和焦平面阵列探测器件,所以生长
具有大单晶面积、组份均匀、结晶完整的碲镉汞材科是碲镉汞晶体研宄发展的
方向。
Bridgman法是碲镉汞晶体生妊的一种常用方法,由r碲镉汞T.x相图(弛幽
1)固相线与液相线分离较宽,这种由液态直接;疑尚生陈出的晶体存在严重的组份
分凝,而且生莨温度较高,容易发生爆炸,其他生长方法(区熔法,Te溶剂法、
固态再结晶法等),虽然在不同程爱上减少了组份分凝的影响和发生爆炸的可能
眭,但要同时满足高性能器件对材科的整体要求还存在一定的差距。尽管外廷生
长LLPE、MBE、MOVPE等)硅-人为是碲镉汞晶体生欧发展的趋势,但由f外
延研究起步铰晚,薄膜材料生长帮用薄膜材料制作器件的工艺均还不太成熟,所
以体晶生长(尤其是生长的新方==三j、新技术、祈r:艺j仍具有研究的必要性。
二.晶体生长
2.I生长原理
碲镉汞的T_一X相图是碲镉秉品障生长的基本依耀、在Bddgraan法生长中,
等配料组份x,=O s/xlt
2,由于0dTe相对HgTe分凝严重,其分凝系数K=x
3,所以初始崮相组份大fO,5(即B鲁).此后,液相雨7f州相组份分别沿液捆线和
固相线向下侈动,只有在液相组身洹定在c点:即x,。O.07)时,生长出的晶体组
份才稳定在长波组防对应的D点L如x。。O.2),
生长原理如图2所示,生跃体系目三部分绲成,{为周相(CdTe或高组份
料j,II为液蔺fH£丁e业低组份辩),m为生臣出的品体。
综上所述.叔相复台法生跃嚣是色生睦对坝相(即固相和液相)同时存在,并
庄一定的温度分布下,由高组份埘逐新溶解、输延,维持液相组份不变而发生结
晶的过程。该过程实际上可吾成是一和“连续的液相外延”。
由此可见,舣帽复合法生#1Te溶制:圭生氏,液相外延往某釉程度上有相似
之处,但该方法不是往富R的情:置F生长。因而减少了品体中产生Te沉淀或Te夹
杂的可能性。
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