屏蔽泵在多晶硅装置与应用.pdfVIP

屏蔽泵在多晶硅装置中的应用 霄风芹，邱立莉 大连海密梯克泵业有限公司 捕￥：舟≈7我目；5硅±产∞发展趋势日覆屏《{在；^硅装t十使月优势$女r≈理$章。 *t∞*《i；；a硅；＆m 中水解，可发烟。在氯硅烷的烟雾中台有其水解产 1 多晶硅发展趋势 物盐酸。所以氯硅烷的毒作用主要表现在其强烈的 多晶硅被广泛地应用于电子电器、通讯仪表、太 刺激性和腐蚀性。 阳能光伏领域、国防军工和其他工业领域。多晶硅 为了解决输送介质“跑、冒、滴、漏”现象，以及 材料是半导体和太阳能产业发展的重要基础材料。 实现无毒车间、安全生产作业管理，无泄漏离心泵 进人2005年，由于世界多晶硅太阳能电池产能近5(屏蔽泵和磁力泵)已逐渐成为石油、化工、医药行 年平均以高达50％的速度增长，而为了适应半导 业输送有毒、易燃、易爆、易挥发、易腐蚀、贵重等介 体、太阳能用硅量的增加，世界各国都有增加多晶硅 质的首选设备。 项目的生产计划。2007年，中国一跃成为世界第一 海密梯克的CAM型多级屏蔽泵和CNF型单级 太阳能生产国，世界多晶硅光伏产业已经向中国 屏蔽泵采用高压内循环的方式，非常适台输送易汽 转移。 化的液体。这是因为： 目前，国内外普遍采用技术成熟、投资风险较 (1)CAM型多级屏蔽泵的循环方式是从末级 小、产品质量稳定并且易于扩建的改良西门子工 叶轮出口处高压区分流出一部分液体．进^屏蔽电 艺法。 机转子腔，对滑动轴承及屏蔽电机进行桶滑和冷却， 改蘸西门子法——闭环式三氯氢硅氢还原法。 然后通过轴心孔回到次末级叶轮的次高压区(见 改良两门子法是用氯和氢台成氯化氲(或外购氯化 图1)。 氢)，氯化氢和工业硅粉在一定的温度下台成三氯 氢硅，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提纯后的 三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多 晶硅。 2海密梯克屏蔽泵的特点殛应用优势 在多晶硅的生产中．屏蔽泵主要用于三氯氢硅 合成工序中、三氟氢硅精馏提纯工序以及三氯氢硅 田1 c^M型多轻屏蔽泵嚣环方式 还原工序和输送四氯化硅工序中。四氯化硅和三氯 氧硅是提取高纯度硅的的中间产物。三氯硅烷在常 (2)CNF型单级屏蔽泵的循环方式是从叶轮 温常压下为具有剌澈性恶臭易流动易挥发的无色透 出口处的高压区分流出一部分液体进人轴心孔，然 明液体。在空气中发烟．遇水或永蒸气能产生有毒 后通过辅助叶轮再次加压进^屏蔽电机转子腔，对 的腐蚀性烟雾。四氯化硅在常温常压下为具有窒息 屏蔽电机及滑动轴承进行冷却和澜滑．最后回到叶 性刺激臭的无色透明有毒液体。易气化在潮湿空气 轮出口处的高压区(见围2)。 技术交流 备与管道》增刊 量降低，甚至硅反应停止。因此，多晶硅设备的脱脂 工艺尤为重要。 (2)水分。水中含有大量的氯离子，氯离子对 多晶硅的反应十分敏感。泵设备厦系统干燥工艺很 关键。