脉冲供氧反应磁控溅射法TiO-%2c2-薄膜光催化特性研究.pdfVIP

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2017-08-10 发布于安徽
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脉冲供氧反应磁控溅射法TiO-%2c2-薄膜光催化特性研究.pdf

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学报 VoL28 第28卷第8期增刊仪器仪表 N．o．8 Chinese ofScientificInstrument 2007年8月 Jourmd Aug．2007 脉冲供氧反应磁控溅射法Ti02薄膜的光催化特性研究* 王秩伟1’2，龚恒翔2，章盛林2，李雪2，夏明荣3 (1西华师范大学物理与电子信息学院南充637002； 2绍兴文理学院材料物理与设备研究所绍兴312000； 3杭州大华科教仪器研究所富阳311400) 摘要：利用脉冲供氧反应磁控溅射法在载玻片衬底上制备纳米Ti02薄膜，在自制动态光催化降解设备上分析了样品的光催化降解特性。以波长253nn-i的紫外灯为紫外光源，以初始浓度0．2 分光光度计测试目标溶液的吸光度随降解时间的变化关系A(t)～t。研究结果表明，在氧氩流速比3。27条件下所得的样品光催化效果最佳，最大降解率达45％(480min)，值为1．17×10—3min-1。同时，研究表明光催化降解测试受到很多外界因素的影响，氧气的导入有利于催化降解作用的发挥。关键词：Ti02薄膜；磁控溅射；光催化降解；铬黑T of of thinfilms Ti02 Studyphotocatalyticproperties depositedby reactive magnetronSputtering pulse-oxygen-supply Xuez，XiaMingron93 WangZhiweil一，GongHengxiangz，ZhangShenglin2，Li West (J andElectronic Normal 637002，China； CollegeofPhysics Information，ChinaUniversity，Nanchong 2Institution and ofMaterialPhysicsEquipment。Shaoxing 3 Dahua 311400，China) HangzhouLid。Fuyang thin reactive filmswere onslidesubstrates Abstract：TiOz deposited bypulse-oxygen-supplymagnetron was like andthe wascarriedout inwhich introduced sputteringoxygen pulse photocatalysisdegradation by