原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
电子半导体镀金槽液中无机砷化合物的形态分
伍利兵赵清贤陈朝方簟
关键词：无机砷化合物、形态分析、镀金
摘要：本文研究建立了电子半导体微电机系统(MEMS)加工镀金s-Z；槽液中无机砷离子的形态分析方
一)元机砷，然后采用石墨炉原子吸收光谱法分别测定含量．该方法的分离效果和检测限均能满足生产
控制的要求，并且具有操作步骤简捷、样品试剂用量少等优点。
arsenic in
Inorganic analysis
speciation
semiconductor
goldplating
Wu Chaofang宰
Libing，ZhaoQingxian，Chen
Zhuhai and
Entry—ExitInspectionQuarantine
arsenic
Keywords：Inorganiccompound，Speciationanalysis，Goldplating，
Abstract：Amethodof arsenic insemiconductorwasestablished．
inorganicspeciationanalysis goldplating
The was EDTAand resin Phase
by SPE(SolidExtraction)column．
samplepreservedby separatedion-exchange
The of GF-AAS．Thedetectedlimitand
determination
As“(As02-)andAslAs043一)wasperformedby
meetthe of contr01．The is andcalldecrease
precision requirememplatingprocedurequaJity operationsimple
reagentconsumption．
一前言
半导体材料进行微机电系统(征MS)加工是电子半导体器件产业发展一个新的交叉分支，其生产过
程经常涉及到镀金工艺。由于工艺要求的特殊性，一般使用添加了剧毒亚砷酸钠盐的TG-25镀金电解液，
因此它们组成比例对镀金效果的影响较大，电镀槽液需要定期监控分析。
目前，对于砷的各种形态分析已经有许多成熟的方法。它们采用的分离模式主要有：阴／阳离子交
槽液中的砷主要以无机砷化合物的形式存在，不像土壤、，沉积物和水等样品含有环境体系中生物代谢而
27
等涉及昂贵仪器的联用检测技术；而且操作简便，样品和试剂的用量少，检测的精度和灵敏度能满足半
导体镀金工艺的要求。
二实验部分
2．1仪器
LC-SAX，
石墨炉原子吸收分光光度计PEAA600，带自动进样器AS800；离子交换固相萃取柱(Supelco
3-M1／500mg，Sigma-Aldrich Cat．No．
57032／57020-U)；IKAMSl涡旋振荡器；分离装置见图1。
加样、洗脱
1L
文档评论（0）