硅基CVD金刚石膜的制备及应用.pdfVIP

硅基CVD金刚石膜的制备及应用 何敬晖陈磊秦松岩玄真武 (北京天地东方超硬材料股份有限公司，北京100018) 摘要本文对硅基体上沉积金刚石膜的制备方法以及应用领域进行了研究和介绍，通过研究发现。 硅基体上沉积的金刚石膜几乎没有网状裂纹出现，改进工艺条件后可得到更高强度。此外．本文还 介绍了硅基金刚石膜目前技术发展状况，面临的问题以及应用前景。 关键词硅；金刚石膜；CVD The and ofCVDdiamondonsilicon synthesizedapplication He Zhenwu Jinghui，ChenLei，QinSongyan，Xuan tiandiorient materialLtd．Co (se／j／ng superhard lOOO，8) onsiliconandits diamond AbstractInthe discussedthemethodofCVDdiamond App．The paper,we filmshavenevercrackinit onsilicon．Anditcan itsbreakdown deposited improved introducedthe and and ofdiamondfilmsonsilicon． application developmentquestion silicon，diamondfilms；CVD Keywords O引言 自20世纪90年代以来，CVD金刚石膜制备及加工在技术、工艺及装备等方面均取得了重大进 展，应用和基础研究也更加深入。工具类产品已经率先进入市场，获得了广泛应用，例如切削工 具、修整工具和耐磨部件等【Il。然而对于更高层次的应用，则受到重复性、可靠性以及成本等因 素的影响，未能实现大规模应用及产业化生产。 沉积金刚石膜的基体材料通常有钼、硅、硬质合金以及某些陶瓷材料。这些材料在热学和化 学方面有共同点，也有差别。因此沉积工艺也不尽相同，金刚石膜所呈现的性能特点也有差别。 硅的晶体结构、热膨胀性能与金刚石具有较好的匹配关系，因此在硅基体上沉积金刚石膜的 研宄报道也较多。在硅基体可以沉积金刚石膜的种类很多，包括薄膜、厚膜、纳米晶(晶粒尺寸 l肚100 am)金刚石薄膜等。 am)以及超纳米晶(晶粒尺寸l～10 硅基金刚石膜在声学器件、微机电、电化学和集成电路等方面具有广泛的应用和市场前景。 单晶和多晶硅材料已经在半导体、太阳能和微机电等方面得到了大量的应用，已经融入到人们的 日常生活和工作当中，如各种电子、信息设备等，其产业化程度已经非常成熟。而结合金刚石的 优异性能(高热导率、低介点常数等)，能够开发出高性能的器件。 钼属于难溶金属，易与碳形成高硬度的碳化物，一般在其上沉积金刚石厚膜，而且可以反复 使用。但是钼的热膨胀系数较大，所沉积得到的金刚石膜易产生裂纹。有关产生裂纹的原因及解 硅基cVD金刚5膜的制备厦应用 决方法也有不少报道””。 本文以热丝化学气相沉积为沉积方法，讨论了硅基体上得到的金刚石厚膜、薄膜的一些性 能，以及一些市场应用和面临的问题。 圉2金刚5耳膜和簿膜 2硅基金刚石厚膜特点 2 1裂纹 对于厚膜而言．裂纹(从基体面观察)对膜片的质量、出材率等都有较大影响．直接增加了 成本，因此，在实际生产中应尽量避免裂纹。 通常硅基金刚石厚膜几乎不存在网状裂纹，而钼基金刚石厚膜则相反，工艺控制和基体大小 不当等因素易产生各种裂纹，包括网