布儒斯特角法测量金属薄膜折射率并解释不消光现象.pdfVIP

第 33卷 第 6期 物 理 实 验 VoI．33 NO．6 2013年 6月 PHYSICSEXPERIMENTATION Jun．，2013 学 布儒斯特角法测量金属薄膜折射率 生 园 并解释不消光现象 地 贺 昊，赵 地，王 鑫，苏为宁，江洪建 (南京大学 物理学院，江苏 南京 210093) 摘 要：根据布儒斯特角原理对磁控溅射的铜膜样品进行了折射率的测量，实验发现当p偏振光以布儒斯特角入射 时，反射光并没有完全消光．从理论上、通过数值计算分别论证了金属薄膜折射率的虚部、薄膜界面多次反射等因素的 影 响，并与实验结果 比对得到符合的结果． 关键词 ：布儒斯特角；薄膜折射率 ；金属薄膜折射率 ；不完全消光 中图分类号：0484．41 文献标识码 ：A 文章编号：1005—4642(2013)06—0040—04 1 91 言 到对应样品编号1，2，3· 3 基本实验测量 近年来 ，薄膜技术越来越广泛地应用于光学 工程、微 电子技术、生物工程等领域．对薄膜各项 3．1 实验原理 参量的测量在薄膜 的应用中起着关键作甩．一般 一 束 自然光从介质 1入射到介质 1和 2的界 光学常量的测量方法有光谱法、椭圆偏振法等，但 面，反射光和折射光会变成部分偏振光，将电场方 这些方法需要 昂贵的仪器．如果测量精度要求不 向平行于入射面的偏振分量称为 P偏振 ，将 电场 高，可 以使用布儒斯特角法[1]．该方法简便易 方向垂直于入射面的偏振分量称为 S偏振．对于 行 ，只需测量反射光的强度[3]．对于金属薄膜， P偏振有[： 其折射率分为实部、虚部，也可使用布儒斯特角法 Ell tan (一 ) ，1、 一 一 ’ 进行测量． 、 其中，E∥为反射光振幅，E∥为入射光振幅，0为 2 样品制备 入射角 ，为折射角，且假设 一 一 。，从 (1)式 选择玻璃和石英作为基片 ，使用磁控溅射仪 可以看出，当 + 一9O。时，E∥一0，此时入射角 [海康创业 (北京)科技有限公司]制备铜膜样品． 称为布儒斯特角 7【]，用 6lB来表示． 实验过程中可以通过控制溅射腔的真空度 、溅射 tan0B _nk ， (2) 功率 、电流和溅射时间，以及溅射完成后样品的后