大面积光刻胶线棒涂布工艺研究.pdfVIP

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  • 2017-08-09 发布于湖北
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华南师范大学学报 (自然科学版) 2015,47(2):84—89 JournalofSouthChinaNorma1.University(NaturalScienceEdition) doi:10.6054/j.jSC[IUII.2014.12.015 大面积光刻胶线棒涂布工艺研究 韦必明,金名亮,吴 昊,窦盈莹,周国富,水玲玲 (华南师范大学华南先进光电子研究院,彩色动态电子纸显示技术研究所,广州 510006) 摘要:介绍了一种在大面积基材上涂布高粘度光刻胶的线棒涂布法.主要针对涂膜厚度与均匀性进行研究,结果表 明,膜厚随着光刻胶粘度和涂布棒尺寸的增大而变厚,涂布速度在某一范围内对膜厚无影响.线棒涂布机设备中所 加垫板的硬度直接影响涂膜的均匀性,硬度小的垫板可获得更均匀的涂膜,而垫板高度在某一范围内对膜厚无影 响.与常用旋涂法相比,线棒涂布法具有操作简单、节省材料和可大面积涂布等优点. 关键词:线棒涂布法;大面积涂布;高粘度;光刻胶;涂布工艺 中图分类号:TQ586.3 文献标志

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