纳米硅酸锆的水热合成.pdfVIP

维普资讯 第 28卷第 1期 硅 酸 盐 学 报 Vo1．28． No．1 2000年 2月 JOURNALOFTHECHINESECERAM ICSOCIETy February，2000 纳米硅酸锆的水热合成 。 i 堕 ，三壹生，苗鸿雁，罗宏杰 、 料 凸 (西北轻工业学院材料科学与W-程系 ．陕西 成 阳 椿 薹 ：剃用 水热祛剖备了纳米 ZrSiO,粉 体 借助 XRD．TEM 厦 sEM 等研 究 了 ZrSiOa晶粒相组成 、粒度和 结 晶形貌 与前驱翱 zr和 1 实 验 si的摩尔 比、水热反应温度 以厦反 应 时 间之 问的美系 ，井对 ZrSi 的台戚机理进 行 了衬步研 究 结果表 明：前驱翱 (Zr)／n(Si)=12： 实验采用 250ml筒式高压 釜 ，高压 釜配有精密 的温度 、 10．反应程度为 320℃，反应时间为 6h．可制得结晶 良好、分散性 压力测量和拉 {6l装置 分别进行不 同前驱物配 比、水热反应 好 、粒度在 100nm 以下 的ZrSiO4粉体 温度及反应时间下的水热音成实验 以ZK3CI2溶液和 Na2Si03溶液混台后得到的沉淀或藩 *t ：!!兰苎； ； 生堡 柙 胶 ，经水洗 、过摅 、干燥后 的粉末 为前驱物 ，水热反应用 NaF 中圈分类号：TQ 175844 作矿化剂 ，以去离子水为反应介质 固定填充 比为 60％ 文鼍标识码 ：A 文章■号：0454 5648(2000)01 ∞87—04 水热反应前 ，对前驱物作 Zr，si成分分析 反应后 ，将 水 热合成 的粉体用去离 子水反复洗涤 ，在 ll0℃下干燥后 ，对 硅酸锆 (ZrSi．O,)具有 良好 的化学稳定性和抗 热震性 ，并 其进行 TEM ，sEM 和 XRD检测 将样 品 的XRU 冒谱 与标 且有 很 低 的热 黪 胀 系 数 (从 室 温 到 1400℃ 为 4 】× 准 ZrSi04的XRD 图谱作 比较 ，得到其 晶相大致古量 ． 10 ／℃)和低 的热导系数 (室程为 5 lW —m ·℃ ，l000 ℃为 3．5W ·m_1·℃ )．在 1200～1400℃之前纯烧 结硅 2 结果与讨论 酸话均艇保持其 良好的弯曲强度… ，在达到 l700℃的熔解 良 』r