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维普资讯 第37卷 第3期 人 工 晶 体 学 报． V01．37 No．3 2008年6月 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS 绒面结构 ZnO薄膜及其表面处理 陈新亮，薛俊明，张德坤，蔡 宁，张晓丹，赵 颖，耿新华 (南开大学光电子薄膜器件与技术研究所，南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室， 光电信息技术科学教育部重点实验室 (南开大学 ，天津大学)，天津300071) 摘要：本文制备出(110)峰取向的绒面结构MOCVD—ZnO：B薄膜并提出CH3COOH湿法刻蚀的表面处理技术。研究 表明，绒面结构ZnO：B薄膜具有 “类金字塔”晶粒形状；处理前后ZnO~B薄膜的微观结构，方块电阻和光学性能变 化不大。适当的表面处理有助于使薄膜表面趋于柔和，有望改善ZnO／Si界面特性，从而应用于 Ixc—Si薄膜太阳电 池。 关键词：MOCVD；绒面 ZnO薄膜；湿法刻蚀 ；太阳电池 中图分类号：0484 文献标识码：A 文章编号：1000-985X(2008)03-0631-03 TexturedZnO ThinFilm andItsSurfaceTreatment CHENXin—liang，XUEJun—ming，ZHANGDe—kun，CAIM ， ZHANGXiao—dan，ZHA0 Ying，GENG Xin—hua (InstituteofPhoto—electronicsThinFilm DevicesandTechnique，KeyLaboratoryofPhoto—elcetronicsThinFilm DevicesnadTechnique 0f anjin，NankaiUniversity，KeyLaboratory ofPhoto—electronicInformationScienceandTechnology (NankaiUniversity，TianjinUniversity)，MinistryofEducation，Tianjin300071，China) (Received25Septe er20007，accepted5Novermber2007) Abstract：TexturedZnO：Bfilmwith(110)peakwasfabricatedbyMOCVDandCH3COOHwet—etching techniquewasproposedtotreatthefilm surface．ResearchresultsindicatedthatthetexturedZnO：B film haslarge pyramid—like grains．Microstructure，sheetresistanceand opticalpropertiesofZnO ：B films before and after surface treatment changed little． Appropriate surface treatment of ZnO：B films contributedtorenderthesurfacetobegentleandcouldamelioratetheinterfaceofZnO／Silayer．whichis expectedtobeaDpliedinI．Lc—Sithin—film solarcells． Keywords：MOCVD ；texturedZnO film ；wet—etching；solarcell