Ni-纳米TiO2复合镀层制备及其光催化性能及研究.pdfVIP

郝建军等tNi一纳米TiOz复合镀层的制备及其光催化性能的研究 Ni一纳米Ti02复合镀层的制备及其光催化性能的研究。 郝建军，白亚楠 (沈阳理工大学环境与化学工程学院，辽宁沈阳110159) 摘 要： 用电沉积的方法制备出了Ni-LTioz纳米复选用甲基橙(MO)、亚甲基蓝等作为目标降解物 合电镀层，以甲基橙为探针讨论了纳米Ti02添加量、考察纳米Tio：复合镀层的光催化性能。光催化实验 电流密度、PH、温度、电镀时间等对复合镀层光催化性 的影响，通过正交试验得出了最佳工艺参数：阴极电流 液的降解为探针反应评价复合镀层的光催化性能[4’5]。 3．5～4．5；温度35～45℃；纳米 密度2A·dm～；pH 将试样放入装有100mLMO溶液的烧杯中，浸泡面积 Ti02添加量8～129·L-1。并且考察了Ni—LTi02纳 米复合电镀层对不同染料的光催化性。结果表明复合 值，通过比较不同工艺条件下溶液的降解率，得出各工 镀层时亚甲基蓝溶液的降解效果最明显。 艺条件对复合镀层光催化性能的影响。为了排除复合 关键词： 复合电镀；纳米TiOz：光催化性；甲基橙 镀层的吸附性[6]对研究其光催化性能的影响，在进行光 中图分类号：TQl53．1+2 文献标识码：A 催化性能研究之前对复合镀层的吸附作用进行了评定。 1 引 言 3结果与讨论 纳米复合电镀由于在镀层中加入了一定量的纳米 3．1复合镀层的吸附性 粒子，而使金属镀层具有了较高的硬度、耐磨性、自润 为排除复合镀层吸附性对光催化性能造成的影 ． 滑性、特殊的装饰外观以及电接触、电催化等功能，因 响，实验在避光条件下，测定了复合镀层的吸附性。实 此在工程技术中得到了广泛的应用。Ti02是一种II 验中先将复合镀层试样浸入甲基橙溶液中(5mg· 型半导体材料，它的禁带宽度为3．2eV(锐钛矿型)，在 L-1)，然后每30min测一次吸光度，并计算其吸附率， 波长400nm的光照射下，禁带上的电子跃迁到价带 测得结果如表1所示。 上，从而产生电子(e～)一空穴(h十)对。H+是强的氧 衷1不同时间里复合镀层的吸附率 化剂，吸附在二氧化钛表面的0H一和H：0将被它氧Table1 coating’S rateindiffer— Composite adsorption 化成·OH，·0H为更强的氧化剂，它能氧化大部分 etitttme 的有机污染物及部分无机污染物。将其最终降解为 时间(min)30 60 90 120 150 180 Co。，H。o等无害物质[1]。目前纳米TiO：一般用作涂 吸附速(％)0．8 2．0 2．0 2．O 2．O 2．O 层材料在涂料、陶瓷、杀菌等方面应用广泛[2]，而使其 由表可见，该纳米Ti0：复合镀层的吸附率为 与金属基体共沉积得到复合镀层的研究还很少。 2％，并且吸附过程在1h内完成，说明在进行光催化实 文中研究了将纳米TiOz与镍基共沉积制备出了 验过程中，前1h为纳米TiOz复合镀层的吸附与光催 具有高光