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塑料透明导电J]I$(ITO)的研制及其应用
李会斌陈红
(中国科学院长春物理研究所,长春,130021)
摘要本文介绍了一种新型的导电材料一一塑料 气,保持真空度在2.7×10叫帕。这时即可缓慢地加
透明导电膜。文中讨论了研制过的几种铷备方法的优 热蒸发舟进行蒸发。性能良好的膜成膜速度很慢,且
缺点厦膜的性能。还筒要地介绍了塑料透明导电膜在 重复性差。
电(场)致发光、透明加热器、透明薄膜开关等方面的
2.2活性反应真空离子镀沉积法
应用。
关键词ITO磁控谶射透明导电膜 不久,我们就改进活性反应电阻蒸发法为活性反
应真空离子镀沉积法。这种方法是在活性反应电阻蒸
1引言 发法的基础上,在做为衬基的聚脂塑料薄膜(PET)下
加一金属网。给这个网施加一相对于蒸发舟的正高
塑料透明导电膜是一种以透明塑料薄膜材料为 压。这样产生了一个高压场。来源于蒸发舟的电子和
基底,用真空沉积方法制备出的新型的薄膜导电材 蒸发料被正高压吸引加速,并通过它而轰击和沉积在
料。这一材料具有重量轻、体薄、导电性能好、光透过 其上面的衬基上。这一技术使生产的塑料透明导电膜
率高,耐冲击、可弯曲、可以任意地冲裁加工等特点。 的速度加快,但重复性仍不很好。其原因是沉积时各
它可以用做许多光电子器件的透明电极、电磁静电屏 参数要求的精度较高,各次真空保持参数同样是困难
蔽的透明视窗膜、红外视窗膜、寒冷环境下观察窗的 的。在这样技术的基础上,我们研制出了生产塑料透
防霜加热膜及特殊要求的器件的防静电包装膜和透 明导电膜的LD一500型连续镀膜机。
明薄膜开关的电极等。它在许多方面可以取代导电玻
2.3活性反应磁控溅射技术制备塑料透明导电媵
璃,并且可以开拓许多导电玻璃所不能应用的领域。
首先,我们采用真空镀膜技术的电阻蒸发法,在 活性反应磁控溅射的基本原理是在适当的真空
聚脂塑料薄膜(PET)衬底上试制出了塑料衬基的氧条件下,在溅射靶面建立电场与封闭的磁场正交。电
化铟锡(ITO)透明导电膜。后来又采用了真空离子锼场使气体分子离化而产生离子,电磁正交场使离子产
技术。并研制出LD一500型生产塑料透明导电膜的连生螺旋运动,反复多次的轰击置于负高压的靶材料使
续镀膜机。现已改用磁控溅射技术制备塑料透明导电 其发生溅射。同时,引人活性气体(氧)r同被溅射出的
膜,可以生产出质量优良的塑料透明导电膜。其性能: 金属离子进行化学反应而产生新的化合物(ITO)。
表面电阻可小于60n/口t可见光区透过率可大于 研制工作是在我们研制的生产塑料透明导电膜
80
oA(带PET基膜),膜附着力加金属过渡电极后可
的LD一500型连续镀膜机上进行的。我们自己设计了
以焊接弓I线。我所生产的塑料透明导电膜已应用在北 380minxlS0mm的矩塑平面磁控靶,安装于LD一500
京人民大会堂会议信息显示屏上,国产军用及民用飞 镀膜机上。该靶使用了钕铁硼做靶磁体,用铟锡合金
机的仪表显示屏及匿舱照明发光屏上,还应用在复印 做被溅射的靶面。衬基为光学聚脂膜。设备使用D08—
机二次消电灯、防火安全标志等其它产品上。 1A/zM型质量流量计控制氧氩气体的引人比例。并
设有表面电阻和光透过率的监控装置。在这样的条件
2研制
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