Ni-W非晶态合金复合电沉积工艺的研究.pdfVIP

一 Ni—W非晶态合金复合电沉积工艺研究 北京航空航天大学材料皂(10@083)朱立群李卫= 抟要：表虫研完jNi-W{：品态舍金镀液中加^Zr0：+^生挺拄后亡7电沉积工艺二!二艺牟。j镀岳 J一、、结{句和镀层表云彤垃的关系．Ni—W非晶态夏台镀呈的托氧化性能有很大提；． 关键词非晶态 复合镀县抗氧化性 一 ．前言 据需要加入少量的添加剂0麦F美鲁锭岳=ZrO， 韭晶态镀层由于具有优良的性能近年来受到^ 晶体麓考予含量． 一j：习疑大关注而研究盎来愈蠢入．研究的重点主要 萌柱试样为A3钢片。Z藿了寝扳，童兰z入 ：●誊审在常温条件下的对睦性、皂磁性、虮械性能方 NazwO·‘2HzO补充w的蔗乏 Inmrumer-=j二：：scaL：so扫措 ：蕾：，并取得了一定的进是“叫I．．自于非晶志镀层的结 用Cambridge 辩F尊苣，一般在400～S00℃的高涅下热处理，镀层电镜五察镀屠表面形貌．用。：。Northg蔓x射 黾喜言量非晶态转变为晶惠，镀层硬度得到提高．但人们 线能量色散分析仪测定镀层三一再Dna工一RB j臂矗嚣晶志镀层的抗高矗氧化．E哥究的还不多． 型x射线衍射仪测定镀层结《 复台镀层由于在基贡金属蓑层中镶嵌丁部分目 三、实验结果和讨论 雄≈截芝分散相，其性能辱到了是丈提高．围此，复台 1．电镀工艺条件对链层王一#影响 龟*乏迂年来也成为人虹研究号：一十重点。-‘1． 表1是改变镀液温度或叠号气克密庚：．豆冀斧 土文就是在非晶意Ni．w刍生镀层中加入抗高 速度?÷镀层中等w量、镀Z-_=●：：固仁茂毋含量 ■}：芝能优良的ZrO：匿吐微柱．置讨雹体微垃在非晶 的关景．从图中可以看出-二；翥《温度享《于w 冬：兰金皂沉积中的复台芸沉五二艺条件，探讨非晶 舍量躬提高，对zr含量的￡f；o皇不蓝i缝连 j呈 “?￡昙和非晶态复台是暑垄=!三百的坑氧化性．圈 着电泸密度的升高，镀层中j—i’，嚣也考是；r 一j：氧米做粉在提i耐譬=j誓三=：÷蹿作用．夏薯最早酌zr含量是下降的：j～13缸一-j：毫 #留j．，、jjZrO，固体微粒足寸为董采级微糟． 国内，照着搅拌速度的提高．至．；=的W宣至交化 蓦：．．宴验 不是提明显-但镀层中的Zr喜￡兰路有尹亩约．这 。 车实验所选Ni—w荨晶葱爱芸驻萁工艺条『牛是 是因为由于搅拌镀液的速差：；．增加■镀藏中 一￡f己前通过大量实验砖毒的”。。襞渡组成为809／1ZrO，微粒在矾极表面的碰撞≯三，使得二：oz麓垃 ：N’…ⅥO．·21-I：O，2C．g／1}：：s0．·6H：0、509l]在镀层中的俘获量提高丁．己三三窆的提毒曼铎镀 层中的w含量也在提高．信罢三一：构Zr含量下降． 。Io“}{-O，·H，o)、pH为5．SS．5、酮抗：电流密度为 这可能是因为电流密度的提i=：叠表面虾雩fH量 鎏。孽一～：2A／dn·2、韫度为{j—soc，此配方及工艺住所 幕{I鍪嘲的镀层外观较好，茬层g；写秀；!晶卷，表面千整增加，从而影响了ZrO：微￡三芎是中的俘获量． 无净昔．纳米Zr02圆体强杜芒一量艿10～4cg／l，可根 袁L 改变工艺参数对镀层成分的影确 兰!主空(nrain) 温度(℃) 电流密度(A／dm2)