腐蚀开孔和二电极装置体系在电沉积镍—氧化铝纳米阵列中的应用.pdfVIP

维普资讯 第 16卷 第 4期 腐蚀科学与防护技术 Vo1．16No．4 2004年 7月 CORROSION SCIENCE AND PROTECTION TECHNOLOGY Ju1．2004 腐蚀开孔和二电极装置体系在电沉积 镍一氧化铝纳米阵列中的应用 徐金霞 ，黄新民2，梁岩峰3，刘大智 1．河海大学材料科学与工程系。南京210098； 2．合肥工业大学材料学院，合肥230009；3．中煤三建公司，宿县 234000 摘要：分析了金属一氧化铝纳米阵列直流电沉积重要工序之一的模板腐蚀开孔的实验影响因素；对二电极实验装 置体系在直流电沉积镍 一氧化铝纳米阵列的应用可能性进行讨论并做了实验验证． 关键词：氧化铝模板；纳米阵列；直流电沉积 中图分类号：TG174．44 文献标识码：A 文章编号：1002—6495(2004)04．0243—02 ELECTRODEPOSITIoN OFNICKEL NANo—ARRAY oN PORE—FILM oFALUM INA XU Jin—xia，HUANGXin—min2，LIANGYan—feng3，LIU Da．zhi 1．DepartmentofMaterialsScienceandTechnology，HehaiUniversity，Nanjing210098； 2．CollegeofMaterialsScienceand Technology， Univers of Tcehnology，Hefei230009； 3．TheThirdBuildingCompanyof CoalinChina，Suxian234000 ABSTRACT-Nano—‘arrayofnickel—‘aluminawasfabricatedbyelectrodepo sitionofnickelonpore—- film ofalumina，whichwasstrippedfrom ananodictreatedpurealuminum plate．Theinfluenceofpro— ceduresforopenningthrough—‘poreon thealuminafilm andtheelectrodepo sitionparameterson the formationofthenano—arroyofNi—A1203werediscussed． KEY WORDS：aluminafilm ；nano—array；directcurrentelectrodeposition 用阳极氧化法制备的多孑L氧化铝膜作为模板材料组装 果 ．具体检测方法：将浸泡过的多孔氧化铝膜水洗并风干后， 与设计纳米结构材料与功能器件是当今纳米材料研究领域 轻轻置于蒸馏水上。此时 由于表面张力的作用，多孔氧化铝 的一个热点 1【--3]．多孔氧化铝模板合成组装纳米结构材料方 膜会在水面上悬浮，待一段时间后，如多孔氧化铝膜的表面 法有很多，其 中电化学沉积是一种常用 的简便而有 效方 均匀渗出微小液滴，说明开孔效果 良好． 法 4【】．这种方法又分为二种：交流沉积与直流沉积．在进行直 将经过开孑L的多孔氧化铝膜的一面蒸镀一层金后，直接 流电沉积时一个很重要的工序就是给多孔氧化铝模板开孔， 外接到直流稳压电源的负极。并用表面镀有 Nj的铝片接电 开孔的质量直接影响到直流 电沉积能否成功和组装的纳米 源正极。用二电极实验装置体系进行 Ni的电沉积．具体的 体系性能．另外直流电沉积当前一般都采用三电极体系的实 Ni电沉积溶液配方见文献 6【】，外加电压2v． 验装置 [5】，这种实验装置比较复杂．本文分析了多孔氧化铝 2结