利用X射线激发所致X射线源.pdfVIP

维普资讯 第 22巷第 2期 菏 泽 师 专 学 报 2000年 5月 V01．22 NO．2 Journa1ofHezeTeachersCollege May 2000 ⑦ Z6一 利用X射线激发所致的X射线源 李俊兴 ‘ 主 遮 (二)7／。 (绵嘻希羁 蕊 工工学院．四川绵阳621900) 锣 ／ 摘要 介绍了利用x射线激发各种靶片产生x射线源的基本原理和方法．文中给出了靶片和 滤波器的选择原则和具体考虑．最后．对由此而产生的x射线源曲单色性等问题进行了分析 和讨论． 关键词 x‘射线；靶片；滤波器；单色性 塬 xLC~ 中图分类号 0 丽 蔼一A 1003——6318(2000)02——0026——04 1 引言 屑子．志属 通常的x射线源有：各种放射线同位素源，但其强度很弱，如 Fe．各种 x光机．但其x射线能谱却是连 续的．某些研究领域需要用高强度、低能量、单色性好的x射线源，然而在实验室条件下．要获得这种x射线 源，又非易事．本文介绍了利用x光机发射出的连续x射线去激发置于真空靶室里的各种靶片所产生的x 射线源的基本原理、方法以及后滤波技术的手段，以便获得单色性较好的x射线源 ． 2 基本原理 利用x射线与靶片的光电过程，便可击出其原子壳层的壳层电子(如K、L、M等壳层)．由爱因斯坦方程 就可确定光 电子的能量． = Ex一 其中 、Ex、Eh分别表示光电子能量、入射 x射线能量、原子某壳层的电子的结合能． 发生光 电过程后，靶片的原子体系就处于激发状态．该激发态很不稳定．由于外层电子的填补空穴，原子 体系就退激而重新趋于稳定态 原子体系退激时，主要有两种过程：因发射荧光称为荧光过程；因发射俄歇 (Auger)电子而叫做俄歇过程．迭两种过程各占一定的概率．但总概率为 1． 如果原子的K壳层(n-二1)电子被击出，由L壳层(n=2)电子填补空穴．则所得的荧光叫K 辐射；由 M壳层( =3)电子填补空穴．则得到 辐射……．于是得K系辐射．同理，如果L壳层电子被击出而由M、 N等壳层电子填补空穴．则得到L系辐射等等． 荧光辐射要满足如下选择定则：(1)主量子数 n，须 An≠0．即同一壳层的电子不可转换；(2)角量子数 fI须 =±1；(3)内量子数 j(j=角量子数 +自旋量子数 tits≠负数)．且 △j=0，±1． K 辐射又分 和K ．Kp则分 和KA等等．并且．愈是内层概率就愈大(参见图1) ． 3 靶片和滤波器的选择 3．1 靶片的选择 · 李俊兴 另，59岁，1965年毕业于南开大学物理系原子核物理专业 现为副研究员，中国核学会会员．四川省物理学会 会员．中国工程物理研究院工学院学术委员会办公室负责人．多年从事核物理测试和基础课题研究．曾获国家科技进步 奖 发表论文3O杂篇．目前的研究方向为内辐射照射等． 收稿 日期 1999…07 15 26 维普资讯 2000 孛傻兴等：利用X射线激发所盟 的X射线源 第2期