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                光电工程
                    维普资讯  
第33卷第 l2期                             光电工程                                  Vo1.33,No.12 
2006年 12月                        Opto—ElectronicEngineering                   Dec.2006 
文章编号:1003—501X(2006)I2-0141—04 
            InP层对正面及背面入光PIN探测器 
                              响应度影响研究 
              杨 集,冯士维,李 瑛,吕长志,谢雪松,张小玲 
                   (北京工业大学 电子信息与控制工程学院,北京 100022) 
    摘要:InP盖层对光的吸收及入射光在探测器多界面间的多次反射,使 lnP层对 InGaAs/InPPIN 
    探测嚣的响应度产生了很大的影响。本文测量了正面和背面入光PIN探测器的响应度,并与测量 
    的InP晶片透射率及模拟的透射率进行比较,分析了InP层对正面及背面入光 PIN探测器响应度 
    的影响。结果表明,随着InP层厚度的增加,响应度峰与峰的间隔△ 不断减小,波形越来越密集。 
    所以正面入光探测器的响应度起伏比较明显,且随着InP层厚度的增加,响应度极值对应的波长 
    发生红移 背面入光探测器的响应度非常密集而成为准连续的带状。 
    关键词:InGaAs/lnP;PIN探测器;响应度;InP盖层 
    中图分类号:TN36                       文献标识码:A 
     InfluenceoflnPlayeronresponsivityofthefrontandbackilluminated 
                                  PIN photodiodes 
       YANGJi,FENGShi-wei,LIYing,LUChang-zhi,XIEXue-song,ZHANGXiao—ling 
                     fSchoolofElectronicInformation&ControlEngineering, 
                     BeringUniversityo/、Technology,Bering100022,China) 
    Abstract:TheInPcaplayercouldhaveimpactsonresponsivityforitsabsorbinglossesandreflections 
    ofmulti*layers.Both the responsivity ofthe rfontand back illuminated photo diodes and the 
    transmittancespectl’um ofInPsampleweremeasured.Accordingtothesemeasul’edresultsandthe 
    simulationresultsofthereflectionsofmulti—layers,theinfluenceoflnPcaplayeronresponsivitywas 
    investigated.FheresultindicatedthattheA2 betweenresponsivitypeakandpeakbecamesmallerwhen 
    thethicknessofInPwasincreased Soresponsivityspectrum ofrfont-illuminatedphotodiodeshoweda 
    fluctuantcurve,andthewavelengthofl’esponsivityextremum wasred—shiftwhenweincreasedthe 
    thicknessofInPcaplayer.Forback-illuminatedphotodiode.the△ betweenpeakandpeakwasvery 
    small,SOtheresponsivity spectrum showedflat.Inaddition,theabsorptionofInPmate1’ialenhances 
    obviouslywhenwavelengthismorethani590nm. 
    Kcywords:InGaAs/
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