InP层对正面及背面入光PIN探测器响应度影响研究.pdfVIP

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光电工程

维普资讯 第33卷第 l2期 光电工程 Vo1.33,No.12 2006年 12月 Opto—ElectronicEngineering Dec.2006 文章编号:1003—501X(2006)I2-0141—04 InP层对正面及背面入光PIN探测器 响应度影响研究 杨 集,冯士维,李 瑛,吕长志,谢雪松,张小玲 (北京工业大学 电子信息与控制工程学院,北京 100022) 摘要:InP盖层对光的吸收及入射光在探测器多界面间的多次反射,使 lnP层对 InGaAs/InPPIN 探测嚣的响应度产生了很大的影响。本文测量了正面和背面入光PIN探测器的响应度,并与测量 的InP晶片透射率及模拟的透射率进行比较,分析了InP层对正面及背面入光 PIN探测器响应度 的影响。结果表明,随着InP层厚度的增加,响应度峰与峰的间隔△ 不断减小,波形越来越密集。 所以正面入光探测器的响应度起伏比较明显,且随着InP层厚度的增加,响应度极值对应的波长 发生红移 背面入光探测器的响应度非常密集而成为准连续的带状。 关键词:InGaAs/lnP;PIN探测器;响应度;InP盖层 中图分类号:TN36 文献标识码:A InfluenceoflnPlayeronresponsivityofthefrontandbackilluminated PIN photodiodes YANGJi,FENGShi-wei,LIYing,LUChang-zhi,XIEXue-song,ZHANGXiao—ling fSchoolofElectronicInformation&ControlEngineering, BeringUniversityo/、Technology,Bering100022,China) Abstract:TheInPcaplayercouldhaveimpactsonresponsivityforitsabsorbinglossesandreflections ofmulti*layers.Both the responsivity ofthe rfontand back illuminated photo diodes and the transmittancespectl’um ofInPsampleweremeasured.Accordingtothesemeasul’edresultsandthe simulationresultsofthereflectionsofmulti—layers,theinfluenceoflnPcaplayeronresponsivitywas investigated.FheresultindicatedthattheA2 betweenresponsivitypeakandpeakbecamesmallerwhen thethicknessofInPwasincreased Soresponsivityspectrum ofrfont-illuminatedphotodiodeshoweda fluctuantcurve,andthewavelengthofl’esponsivityextremum wasred—shiftwhenweincreasedthe thicknessofInPcaplayer.Forback-illuminatedphotodiode.the△ betweenpeakandpeakwasvery small,SOtheresponsivity spectrum showedflat.Inaddition,theabsorptionofInPmate1’ialenhances obviouslywhenwavelengthismorethani590nm. Kcywords:InGaAs/

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