二元光栅照明对光刻系统成象特性的影响.pdfVIP

维普资讯 第27卷第3期 光 电工程 Vo】_27。 No．3 2000年 6月 0ptO—ElectronicEn~ineerin June，2000 文章编号 ：1003--501X(2000)。3一O001--03 二元光栅照明对光刻系统 成象特性的影响 歹)／ 罗先刚 ， 姚汉 ，陈旭南，冯伯儒 ，) r ／ (中国科学院光电所技术研究微细加工光学技术国家重点实验室 ，四川I成都，610209) 摘要 ：针对光刻系统分辨力和焦深的矛盾 ，详细研 究了二元光栅 照明对硅 片上光强以厦对光剥系 统传输频率的影响．结果表 明，二元光栅照明可显著提高光强的对比度．改善成象系统的频率传 递函数 ，是一种比较理想的离轴照明技术。 关键词 ：光割 系统；：元光栅照明；成象特性 ；光强度 {传递函数 中国分类号：TN305．7 文献标识码：A TheInfluenceofBinaryGrating Illuminationon ImagingPropertyofPhotolithographicSystem LUO Xian—gang．YAO Han—rain，CHEN Xu—nan．FENG Bo—rll (StateKey1~boratoryfJ}Optical7ethnologyfor ,~4icrofabrication。InstituteofOpticsandElectronics． (hineseAcadem3rJ，Sriences．Chengdu6】0209，Chinaj Abstract：In view ofthecontradiction between theresolution and focatdep!h ofthe pho tolithographic system ，the influenceofbinary grating i[1umination on lightJntensitY ofthe waferandtransmissionfrequencyoftheph。t0hth0gfaphicsystem arestudiedindelail．There sultsshow thatthecontrastoflightintensityandthefrequencytransferfunctionoftheimaging system canbeobviouslyimprovedbybinarygratingillumination．Itisanidealoffaxisi[1umina— tiontechnique． Keywords：Phot01ithographicsystems：Binarygratingillumination；Imagingcharacteristics； Iuminousintersity；Transferfunctions CLC number：TN305．7 引 言 提高光刻成象系统分辨力增大焦深是现代微光刻技术的核心内容 ，常用的方法是增大数值孔径和缩 短波长。但随着波长的进一步缩短和数值孔径 的增加 ，焦深将急剧变小 ，这直接带来了工艺容限下降的不 利后果 为了克服分辨力增加和焦深缩短的矛盾．国内外广泛进行了波前工程 研究 离轴照明技术是最 有发展潜力的技术之一，但传统的离轴照明通常采用四极