摘要
摘要
随着MOS器件尺寸逐渐减小,由热载流予效应导致的损伤变得越来越严重,
已成为影响器件性能的主要失效机制之一。为了保证使用的可靠性同时尽可能地
降低成本,人们迫切需要一种可靠、快速、成本低廉的无损伤热载流子效应预测
方法来代替传统的电参数退化表征方法。
本文介绍了MOS器件热载流子效应及1/厂噪声物理机制。在此基础上,进行
了噪声与热载流子相关性实验,获取了大量热载流子应力前后MOS器件的电参数
及噪声参数数据,并对MOS器件抗热载流子能力的1/fl噪声表征进行了深入研究。
本文取得了以下研究成果:
分别在三种栅压应力下对MOS器件进行热载流子注入实验,发现不同栅压应
力下的热载流子获得不同能量,从而形成高能和低能热载流子。在MOS器件栅氧
化层中,高能热载流子打断硅硅键,低能热载流子打断硅氢键、硅氢氧键,激发
产生氧化层陷阱以及深、浅能级的晃面态等缺陷。这些缺陷引起不同程度的闽值
电压漂移、跨导退化及1/厂噪声参数退化,严重的还引起器件的失效。
本文发现与传统的电参量相比较,噪声参数可以更敏感的反映器件在各种应
力下的热载流子效应损伤。噪声指数Y的变化与器件
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