湿法制作连续微透镜列阵新方法.pdfVIP

维普资讯 第27卷第6期 光 电工程 VoL27． NO．6 2000年 12月 0pto—ElectronicEngineering Dec．2000 文章编号：1003--501X(2000)06--0009--03 湿法制作连续微透镜列阵新方法 ． 艘悃 q—ff 罗红心，周礼书，杜春雷 7 』 I＼I —’ 一 ‘—’ 一 ’ (中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室，四川 成都 610209) A 摘要 ：制作连续微透镜列阵中主要的问题就是浮雕的深度和浮雕面形的控制，已有的微透镜列阵 制作方击不能很好地解决；本文提 出7一种利用干法和湿法蚀刻结合在硅片上制作连续深浮雕 M 微透镜列阵的新方法，得到7深度 4Om 的微柱面和旋转抛精面微透镜列阵。 ～一～一 一 LU0 Hong—xin。ZIt0U Li—shu．DU Cbun—lei (StateKeyLaboratoryofOpticalTechnologiesforMicrofabrication， Instituteof OpticsandElectronics，ChineseAcademy of Sciences，Chengdu610209，China) AbstractiThemainproblemsinmakingcontinuousmicro—lensarrayaretocontrolthedepthof 船于一峪呈I队g reliefand reliefsurface shape．Theexisting methodscannotsolvethese problems．A new methodformakingcontinuousreliefmicro—lensonthewaferbythecombinationofdryandwet etching isproposed inthepaper．M icro—cylindricalsurfaceswitha depth of40~tm and rotary parabolicsurfacemicro—lensarrayareobtained． Keywords：M icro-lensesarrays：Etching；M icro—optica1elements CLC number!TN256 引 言 微光学元件 自2O世纪8O年代诞生 以来，以其重量轻、体积小、设计灵活、可阵列化易于集成等优点而 获得了飞速发展。微光学元件中的连续深浮雕调制型元件相对于二元元件有如下优点：1)衍射效率高，二 元元件按位相折叠，并以多台阶量化，衍射效率受台阶量化级数制约；连续深浮雕微光学元件不需以台阶 来量化，因此可得到高的衍射效率-2)T作波带宽，连续深浮雕微光学元件以折射机制为主，其日l起的色差 远比二元元件的衍射色差小。3)制作简单，避免了二元元件复杂的制作工艺。 已有的连续深浮雕微光学元件制作方法均对大数值孔径、深浮雕制作困难；这些方法包括：单点金剐 石加工、移动掩模、灰度掩模等，单点金刚石加工只能制作单元元件，阵列元件加工困难；移动掩模法掩模 复杂，转移到硅基底上的面形粗糙度不理想，对大深度、大数值孔径透镜制作困难；灰度掩模对信息高频损 失大、图形畸变难以控制和校正。本文提出一种新的利用湿法制作连续深浮雕微光学元件的方法，这种方 收稿 日期 20∞一呻一09f收到