利用全息相衬干涉显微术研究EDTA对KDP晶体生长习性的影响.pdfVIP

第 32 卷 第 1 期 人 　工 　晶　体 　学 　报 Vol . 32 　No . 1 2003 年 2 月 JOURNAL 　OF 　SYNTHETIC 　CRYSTALS February ,2003 利用全息相衬干涉显微术研究 ED TA 对 KD P 晶体生长习性的影响 赵 　朋1 ,2 , 夏海瑞1 ,2 , 孙大亮2 ,3 , 卢贵武1 ,2 , 郑文强1 ,2 ( 1. 山东大学物理与微电子学院 ,济南 250100 ; 2 . 山东大学晶体材料国家重点实验室 ,济南 250100 ; 3 . 山东大学晶体材料研究所 ,济南 250100) 摘要 :利用全息相衬干涉显微术( ) ( ) ( ) HPCIM 研究了 EDTA 对 KDP 晶体 100 柱面和 101 锥面生长习性的影响 。通过 界面边界层宽度的变化 ,可以直观地观测到在溶液中添加少量的 EDTA 后 ,促使 KDP 晶体沿柱面和锥面的生长 ,特 别是对柱面的影响更为显著 ,并对此作了解释 。最佳的 EDTA 浓度范围有待于进一步研究 。 关键词 :KDP 晶体 ; EDTA ;全息相衬干涉显微术 ( ) 中图分类号 :O734 　 　 　 　 文献标识码 :A 　 　 　 文章编号 :1000985X 2003 HPCIM Investigation of the Effect of ED TA Additives on Growth Habit of KDP 1, 2 1, 2 2 , 3 1, 2 1, 2 ZHA O Peng , XIA Hairui , S UN Daliang , L U Guiwu , ZHEN G Wenqiang ( 1 School of Physics and Microelectronics ,Shandong University , Jinan 250100 ,China ; 2 State key Laboratory of Crystal Materials ,Shandong University ,Jinan 250100 ,China ; 3 Institute of Crystal Materials ,Shandong University ,Jinan 250100 ,China) ( )