CVD温度对钼沉积层组织及性能的影响.pdfVIP

第34卷 第12期 稀有金属材料与工程 、b1．34．N012 ANDENGINEERⅢG Decemb盯2005 2005年 12月 RAREME，r札MATERIALS CVD温度对钼沉积层组织及性能的影响 马捷，毕安园，王从曾，周美玲 (北京工业大学功能材料教育部重点实验室，北京100022) 摘要：介绍了化学气相沉积法(CvD)制各难熔金属钼膜层的原理和方法。以MoF6和H2为原料，采用化学气相沉积法 在纯铜基体上沉积出难熔金属钼膜层。分析研究了沉积层的组织、结构和硬度。实验结果表明：沉积膜层显微组织随 MPa：沉积温度 沉积温度变化而不同，沉积温度较低时，沉积层显微组织为细晶层状结构，沉积层硬度可达677×9_8 较高时，沉积层显微组织为致密的柱状晶，硬度稍高于一般烧结铝的硬度。 关键词：化学气相沉积；钼；显微组织 中图法分类号：TGl74“4；TGll3．12文献标识码；A 1 引 言 2实验原理与方法 钼具有导热导电性好、热膨胀系数低、高温强度 实验在自制的简易装置中进行。该装置的组成及 高、蒸气压低和耐磨性强等特性及优异的耐腐蚀性 工作原理如图l所示。 能。在常温下不与盐酸、氢氟酸及碱溶液反应，仅溶 FlOwmctcrValveReactor 于硝酸、王水或浓硫酸之中，对大多数液态金属、非 金属熔渣和熔融玻璃亦相当稳定。因此，钼及其台金 在冶金、农业、电气、化工、环保和宇航等重要部门 有着广泛的应用和良好的前景，成为国民经济中一种 重要的原料和不可替代的战略物质【l叫。但是，钼在地 球上的蕴藏量较少，其含量仅占地壳质量的o．001％， 因此，节约使用钼资源具有非常重要的意义。以化学 气相沉积法在化工容器内壁沉积钼，可以在保证容器 具有良好耐蚀性的同时，降低材料使用量；在火箭发 图l化学气相沉积钼装置示意图 动机喷管内壁沉积钼及合金形成的抗高温烧蚀涂层可 Fig．1SkctchofdcviceofCVDMo 以在保证工件良好抗烧蚀性同时，降低材料脆性，改 善加工性能。过去人们对钨的化学气相沉积进行了广 化学气相沉积钼的原料为MoF6和H2，基体材料 泛的研究f3。】，而对锢的化学气相沉积的研究要少得 为纯铜管。实验时，先将反应室中的基体加热到沉积 多。因此开展钼的化学气相沉积研究，探讨不同工艺 条件对钼沉积层组织性能的影响，从而获得性能优良 气化后通入反应室，同时按比例通入H：进行化学气相 的钼沉积层，具有十分重要的实际意义和一定的理论 沉积。H2，MoF6气体流量由针阀及流量计来控制。以 价值。 热电偶测量和调控反应室温度。反应产物HF用caO 本研究以化学气相沉积法在多种试件内壁沉积了 加以吸收。 纯钼层，并着重分析了沉积温度对沉积层的组织结构、 实验所获得的铝沉积层经磨光、抛光并腐蚀后， 硬度的影响并探讨了不同温度下沉积层的形成机制， 为化学气相沉积钼的推广应用提供了一定的参考依据。 3c型x射线衍射仪进行沉积层晶体结构分析。用 收到初稿日期：2005_04．04；收到修改稿日期：2005—09—23 基金项目：国家“863”计划项目(2003AA305990) majie@蜘ut．edu．cn 万方数据 ·1966· 稀有金属材料与工程