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EB-PVD制备YSZ涂层的氧空位和晶体学织构表征.pdf
V01．15
第15卷第6期 材料科学与工艺 No．6
2 0
0 7年12月 Dec，，2007
MATERIALSSCIENCETECHNOLOGY
EB—PVD制备YSZ涂层的氧空位
和晶体学织构表征
盂 彬，孙 跃，赫晓东，李明伟
摘 要：为探索电子束物理气相沉积(EB—PVD)制备YSZ涂层的显微组织结构特征，采用大功率EB—PVD
设备制备了20
的化学成分和物相组成，并进一步采用x射线面探扫描技术对涂层的织构进行了表征．分析结果表明，涂层
材料具有典型的立方萤石型结构，且表现出择优取向特征，空气气氛中1273K退火前后XRD峰位的偏移以
及退火后O元素沿断面的浓度分布均表明制备过程中在涂层的晶格内形成了额外的氧空位．
关键词：电子束物理气相沉积；YSZ涂层；氧空位；织构表征；面探x射线衍射
中图分类号：TM619文献标识码：A 文章编号：1005—0299(2007)06—0770—04
Oxygen and texturecharacterization
vacancycrystallographic
ofYSZ EB—PVD
coatingpreparedby
MENG
Bin，SUNYue，HE
Xiao—dong，LIMing—wei
for Instituteof
(CenterCompositeMaterials，HarbinTechnology，Harbin
orderto themicrostructurecharacteristicsofYSZ electronbeam
Abstract：In
investigate coatingspreparedby
YSZ withathicknessof20 was EB—PVD
physicalvapordeposition(EB—PVD)，thecoating by e—
p．m prepared
witha chemicaland of were fluores—
quipmenthighpower．The phasecompositionscoatings by
analyzedX—ray
cence textureofthis
spectrometry(XRF)and
X—ray coating
wascharacterizeddiffractionwithanarea resultsdemonstratedthatthediffraction
byX—ray detector．Analysis
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