电催化降解吲哚方酸菁的紫外-可见光谱电化学的研究.pdfVIP

电催化降解吲哚方酸菁的紫外-可见光谱电化学研究 ∗ 张乐 陈金水 郑瑞娟 傅南雁 孙建军 福州大学 食品安全分析与检测技术教育部重点实验室 福州 350108 *通讯联系人：jjsun@fzu.edu.cn 方酸菁是一类光化学性能优异、吸收强度大、光热稳定性好的染料, 许多方酸 菁在近红外区有强烈的荧光发射，在该范围内生物分子自身荧光较弱 ,可避免背景 干扰而获得较高的分析灵敏度,适用于生物分析,包括免疫分析、DNA 测序等生命 科学的前沿领域[1],吲哚方酸菁（Ind-SQ ）是一种具有强的紫外吸收与强的荧光发 射的方酸菁染料吲哚衍生物，在生物以及离子识别方面得到广泛的应用，但是作 为一种染料同样给环境造成很大的污染，如颜色污染和 COD 的升高， Zhao 等[2] 报道了 TiO2 辅助光降解的方法，电化学降解[3]则鲜有报道。本文通过循环伏安法 （CV ）以及方波伏安法（DPV ）测定吲哚方酸菁的电化学行为，并用紫外可见光 谱对恒电位电解的产物进行分析，观察了不同的正负电解电位，不同电解时间， 以及 O 与 H O 对电解的影响，通过紫外可见吸收光谱的变化,分析和推测了吲哚 2 2 2 方酸菁在氧化以及还原条件下的电解机理。 吲哚方酸菁（Ind-SQ ）的结构： Fig.1. Ind-SQ 的分子结构图 Ind-SQ 的电化学响应 Fig.2. Ind-SQ 的CV 曲线。溶液：0.5mM Ind-SQ in DMF + 0.1M TBAP, 扫速：50mV/s 不同电解电位，不同电解时间，氧气等因素对吲哚方酸菁电解的影响。 Fig.3. a, b 不同的正负电位恒电位电解一小时的 UV-vis 光谱，c, d Ind-SQ 在―1.4V 以及 +1.8V 恒电位条件下电解不同时间的紫外可见光谱，e, f Ind-SQ 在―1.4V 以及+1.8V 恒电位条 件下氧气对电解的影响。. 通过 Ind-SQ 的紫外吸收光谱特征吸收峰强度的降低，以及 400nm 附近处出现 新的吸收峰，我们可以判定，正负电位对于方酸菁都具有降解作用。在负电位， 无 O2 存在下 Ind-SQ 不能发生降解作用，负电位的降解主要是由于氧气在负电位可 产生超氧根负离子，超氧根负离子强氧化性使 Ind-SQ 分解。正电位的降解来自于 两方面，主要是电化学方法可以使双键氧化直接断裂，溶解氧对降解过程具有协 同催化作用。 致谢：感谢国家自然基金资助） 3 参考文献： [1] (a)V. S. Jisha, K. T. Arun, M. Hariharan and D. Ramaiah, J. Am .Chem. Soc. , 2006, 128, 6024–6025.(b) B. Wang, J. Fan, S. Sun, Li Wang, Bo Song, X. Peng, Dyes and Pigments, 2010, 85: 43–50. [2] (a)T. Wu, T. Lin, J. Zhao, H Hidaka, and N. Serpone, Environ. Sci. Technol., 1999, 33:1379-1387 (b) T. Wu, G. Liu, J. Zhao, H. Hidaka and N. Serpone, New. J. Chem., 2000, 24: 93-98. [3]M. Panizza, A. Barbucci, R. Ricotti, G. Cerisola., Separation and Purification Technology 2007. 54: 382–387. UV-Vis spectroelectrochemistry study of electro-catalytic degradation of squaraine