GZOAgGZO多层薄膜制备、结构与光电特性的研究.pdfVIP

杨田林等：GZO／Ag／GZO多层薄膜制备、结构与光电特性的研究 GZO／Ag／GZO多层薄膜制备、结构与光电特性的研究‘ 杨田林1’2，张之圣1，宋淑梅2，辛艳青2，姜丽莉2，李延辉2，韩圣浩2 (1．天津大学电子信息工程学院，天津300072； 2．山东大学威海分校空间科学与物理学院，山东威海264209) 摘要： 采用射频磁控溅射和离子束溅射联合设备 在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率扣 高透过率的GZO／Ag／GZO(ZnO掺杂Ga。O。简称更高透过率。 GZO)多层薄膜。X射线衍射谱表明GZO／Ag／GZO金属和半导体组成的三明治结构多层透明导电薄 多层薄膜是多晶膜，GZO层具有ZnO的六角纤锌矿结膜的导电特性主要是由金属层的质量决定。目前，报 构，最佳取向为(002)方向；Ag层是立方结构，具有道的多层薄膜的制备方法大多数是磁控溅射[g～11]，尤 (111)取向。在GZ0层厚度一定的情况下，研究了Ag其是金属层的制备大多数是用直流溅射完成的[口’1引， 层厚度的变化对多层膜结构以及光电特性的影响。研 由于直流溅射速度太快，制备的金属膜层质量较差，并 究发现，当Ag层厚度为10nm时，3层膜的电阻率为9 且厚度不好控制。我们制备多层薄膜的工艺以及薄膜 x10-5 Q·em，在可见光范围内平均透过率达到 的质量具有以下特点：(1)采用射频磁控溅射制备 89．7％，薄膜对应的品质因子数值为3．4×10_2Q～。 GZO层，此工艺和直流溅射相比速度较慢，厚度好控 关键词： GZO／Ag／GZO；多层膜；溅射方法；透明导制。用离子束溅射制备金属层，此方法制备的金属层 电膜 致密、质量好，并且溅射速度慢，厚度好控制；(2)多层 中图分类号：TK513．2 文献标识码：A 薄膜的光电特性与中间金属层密切相关，选择金属Ag 文章编号：1001-9731(2009)11-1767—03作为中间金属层，考虑其在可见光范围内具有良好的 穿透率，且其有良好的导电性。由于室温下制备的 1 引 言 GZO薄膜的折射率和透过率比ITO薄膜高，所以， conduc- 氧化物透明导电薄膜(TCO，transparent tire oxide)在电子学领域有着广泛的应用，如平面显示 多层膜具有更高的透过率。不但如此，GZO／Ag／GZO 器、热反射镜、有机发光器件、光电器件和太阳能电池 多层薄膜的光电特性与中间金属层的厚度有关，本文 等n叫]。目前，应用较多的是铟锡氧化物薄膜(IT0， 研究了GZO层厚度一定的情况下，Ag层厚度的变化 indiumtin oxide)，由于IT0具有高透过率、低电阻率对多层薄膜的结构和光电特性的影响。 和高功函数等特点，在许多方面得到应用。但是，由于 2 实 验 ITO成本较高，稳定性不是很好等问题，广泛应用受到 了一定限制。掺杂的氧化锌薄膜相对于ITO和SnO： 而言，具有价格便宜，沉积温度相对较低和在氢气气氛 型超高真空磁控溅射与离子束溅射联合设备完成的。 下具有更好的稳定性等优点，最近几年到了广泛的研 究[5-7]。但是，这些薄膜的电阻率仍然较高，这就限制 l (ZnO)tm(Ga203)=97 了它作为电极在液晶显示中的应用[8]。为了进一步改 3，纯度均为99．9％)，靶材 善薄膜的光电特性，由