N2流量对中频非平衡磁控溅射TiAlN薄膜结构及性能的影响.pdfVIP

—————————————————————————————————————————————————————————————————————————————————————!—一一一』堕———————————————————一丝 篁 塑 盐 。…I㈩yJ…，’口 吴劲峰1，何乃如1，邱孟柯1，吉利2，李红轩2，黄小鹏· (1．甘肃农业大学工学院，甘肃兰州730000； 2．中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室，甘肃兰州730000) 摘要： 采用非平衡磁控溅射技术在AISl202不锈 物硬质薄膜过程中，功率、偏压以及N。流量直接决定 钢片和P(111)单晶硅基底上制备了TiAlN薄膜，并利 了薄膜结构进而对其性能产生重要影响。目前，有关 用场发射扫描电镜(FESEM)、三维轮廓仪、X射线衍 TiAIN薄膜性能的研究较多，但足关于制备过程巾参 射仪(XRD)、X射线电子能谱仪(XPS)、纳米压痕仪对 数对其性能影响的报道较少。 薄膜的结构和性能进行了考查。结果表明，随着N。 本文采用中频非平衡磁控溅射制备了TiAlN薄 流量的升高，TiAlN薄膜的沉积速率降低，A1／Ti比率 膜，并研究了不同N。流量对薄膜的沉积速率、化学组 先升高后迅速降低；薄膜主要由TiN立方晶构成，且 成、物相组成、表面形貌及机械性能的影响。 随Nz流量的升高晶粒尺寸减小，柱状晶结构变疏松。 2 实 验 在氮气流量为20mI．／min时，薄膜具有最高的硬度及 结合力。 采用实力源公司牛产的中频非平衡磁控溅射设备 关键词： 磁控溅射；TiAlN薄膜；N。流量；微观结构； 硬度 中图分类号：TGl74．444；TB43文献标识码：A 文章编号2013)01—0032—04 体材料，并在丙酮中超声清洗3次，每次清洗15rain并 迅速用空气吹干放人腔室内，本底真空抽至8× 1 引 言 10。3Pa以下，在沉积之前将基底加热至120℃，并用高 TiN薄膜具有较高的硬度和抗氧化性，且密度低 能Ar一轰击基材表面20min，清除基材表面的污染物， 热稳定性好，能有效提高材料的耐磨耐腐蚀性能及其 使用寿命．在工业生产中获得了广泛应用u+…。然而随 着技术的发展，对材料的性能要求也越来越高，TiN薄 膜因为脆性大、结合力较弱、高温抗氧化性差等缺陷使 Ar流量：Ar为62mL／min，N2分别为18、20、22和 其应用受到很大限制。。。jl。1986年，Munz第一次在 24mI。／rain。 TiN中添加A1制备出替代TiN的TiAlN薄膜6】。 TiAlN薄膜具有更高的硬度，高温耐磨及抗氧化性，从 利用MicroXAM型非接触三维表面轮廓仪测试 而引起人们的研究兴趣。“8。 薄膜的厚度和粗糙度，并根据沉积时间计算沉积速率； 目前，TiAlN薄膜主要采用物理气相沉积(PVD) X’ Pert—MRD 的方法来制备。PVD制备方法主要有热蒸发镀、磁控 X—ray 溅射和多弧离子镀技术。磁控溅射制备的薄膜表面平 相组成分析；利用FESEM观测薄膜的表面和截面形 整、致密，沉积温度低、速率高，因而备受工业界的重 视