pH 值和缓冲剂对水热电化学沉积 HATiO 2涂层的影响.pdfVIP

年第 期( )卷 ０７０９４ ２０１４ ７ ４５ 文章编号: ( ) １００１-９７３１ ２０１４ ０７-０７０９４-０５ 值和缓冲剂对水热电化学沉积 / 涂层的影响∗ pH HA TiO２ １ ２ １ １ １ １ １ , , , , , , 马凤仓 徐 敏 刘 平 李 伟 刘新宽 何代华 陆晓琴 　 　 　 ( , ; , ) 上海理工大学 材料科学与工程学院 上海 上海理工大学 机械工程学院 上海 １． ２０００９３ ２． ２０００９３ : , , 摘 要 以微弧氧化后的钛合金为基体 采用水热电 果表明 电压和电解液温度与表层晶体形核长大形式 　 　 [ ] / . 、 . １２ , 化学法制备了HA TiO 涂层 利用SEM XRD 对涂 有关 Ka i oshi等 采用水热电化学技术 以钛为基 ２ j y 、 , , . 层的表面形貌 物相组成进行了表征分析 通过 pH 微 体 在 １５０ ℃下沉积得到 BaTiO３ 薄膜 但水热电化 / , , 探针原位探测电极 电解液界面pH 值的变化 研究了 学沉积羟基磷灰石涂层的研究刚刚起步 该方法所涉 值和缓冲剂对水热电化学沉积 / 涂层的 及的工艺及原理需要进一步深入研究. pH HA TiO２ . , , 影响 研究结果表明 微弧氧化膜有利于水热电化学 在含钙盐和磷盐的电解液中 一定浓度的钙离子 , 、 . 、 沉积 HA 得到的HA 晶体分布均匀 致密 当电解液 和磷酸根离子相互作用生成难溶性化合物 CaHPO４ 值在 时, 值升高有利于提高水热电化学 ( ) 和 ( )( ),降低了电解液中 pH ２~８ pH Ca PO Ca PO OH ３ ４ ２ １０ ４ ６ ２