pH值对液相自组装法制备纯相BiFeO3薄膜的影响.pdfVIP

谈国强等：pH值对液相自组装法制备纯相BiFeO。薄膜的影响 pH值对液相自组装法制备纯相BiFe03薄膜的影响+ 谈国强1’2，赵高扬1，任宣儒2，苗鸿雁2 (1．西安理工大学材料科学与工程学院，陕西西安710048； 2．陕西科技大学材料科学与工程学院，陕西西安710021) 摘要： 采用液相自组装法，Bi(N03)3·5H20，Fe 清洗10min后，置于紫外光(SENLIGHTS公司 (NO。)。·9H20为原料，柠檬酸为螯合荆，以0TS单 分子层为模板，在ITo玻璃基片上成功制备了BiFeO。后的洁净基片在()T孓甲苯溶液中浸泡30min．氮气吹 晶态薄膜。研究了前驱液PH值对BiFe03薄膜的影干，于紫外光下进行40min的二次照射，得到表面带 响。利用XRD，EDS和SEM等测试手段对在不同pH有一0H官能团的良好的亲水性功能化基片[6]。将Bi 值下沉积的BiFeO。薄膜进行了表征。结果表明，由于 Bi3+络合物比Fe3+络合物的成核速率快，在PH值为98．5％)以一定的比例溶于加有冰醋酸的溶液中(V 1．5，Fe3+／Bi3+摩尔比为2．6时得到了纯相BiFeO。薄 膜；随着PH值的增大，需要增大前驱液中Fe3+／Bi3+ 摩尔比才能得到纯相BiFeO。薄膜；该工艺制备 BiFeO。薄膜适宜的PH值范围为1．50～1．65，在这个前驱液的离子浓度为0．01mol／L。溶液的pH值采用 范围内沉积的BiFeO。薄膜都很致密。 稀硝酸和氨水来缓慢调节。将功能化的ITO玻璃基 关键词： 自组装；纯相BiFeO。薄膜；pH值 片倾斜着放入前驱液中，在沉积温度75℃时，沉积 中图分类号：TB43 文献标识码：A 12h。取出基片。用去离子水冲洗干净。将其在室温下 干燥24h，于马弗炉中550℃保温2h，即可得到晶态 文章编号：100l一9731(2011)06—0985—03 BiFe03薄膜。 l 引 言 2．2测试 多铁材料是一类可以在一定温度范围内呈现铁电 采用日本理学D／max-3c自动X射线衍射仪进行 性和磁性共存的材料。铁电性和磁性的共存不仅使其 在磁性器件和铁电器件方面具有重要的应用前景，而 且由于其具有的磁电耦合性质，使其在新型存储器方 面也有重要意义。BiFeO。是一种具有三角扭曲的钙用英国马尔文公司产纳米粒度及Zeta电位分析仪测 钛矿结构(属于R3C点群)，是少数在室温下同时具有定BiFeO。前驱液的Zeta电位。 铁电性和磁性的多铁材料之一，室温下呈G型反铁磁 3结果与讨论 有序(TN=397℃)和铁电有序(Tc=850℃)[1q]。近年 来由于薄膜制备方法的发展。使其受到了广泛的关注。 3．1 自组装单层膜H’5](self-assembledmonolayers，SAMs)膜的XRD和EDS表征 技术具有原位自发形成、成键高度有序排列，缺陷少， 结合力强、呈“结晶态”等特点。SAMs制备方法简便铁酸铋前驱液中沉积12h并在550℃保温2h得到的 易行，且无须特殊设备，而被广泛应用于功能陶瓷薄膜 的制备中。本文采用SAMs技术，制备了三氯十八烷Bi3+摩尔比为1．0时，Bi：O。的衍射峰是主峰，而 基硅烷(OTS)单分子膜层，在硅烷的功能性基片上诱BiFeO。薄膜的衍射峰较弱；而当比值为2．6时， 导生成了BiFeO。薄膜，并研究了pH值对BiFeO。薄 膜物相和形貌的影响。 致，且由图2所示其EDS能谱可知，薄膜中n(Fe)：咒 2 实 验 2．1 BiFeO。薄膜制备 的薄膜为纯相BiFeO。薄膜。因此表明调整前驱液中 将ITO玻璃基片于去离子水、丙酮、无水乙醇中 *基金项目：国家自然科学基金资助项目；陕西科技大学