铁氰化物膜在巯基乙酸修饰金电极上的制备及在电分析化学中的应用的研究.pdfVIP

第十届全国电分析化学会议论文集 基础电分析化学理论与应用 C73铁氰化物膜在巯基乙酸修饰金电极上的 及其在电分析化学中的应用研究 王淑敏陈文静屈建莹’王金中郝巧艳 (河南大学化学化工学院开封475004) 铁氰化物是一类重要的可以吸附在SAMs表面的电活性物质，铁氰化物膜由于 其独特的理化性质已被广泛报道并深入研究，曾经有人报道过铁氰化镍、铁氰化钴单 层膜的制备。本文中，我们首次通过层层组装的方法，将金属盐(Ni2+、C02+)和 【Fe(CN)6]3’交替沉积在巯基乙酸功能化的金电极表面，制备了铁氰化物多层膜修饰电 极，并利用循环伏安法(CV)对多层膜的生长过程进行了表征。同时，考察了该修 饰膜电极的性质及其在电分析方面的应用。 h， 电极的制备：洁净的金电极浸入到10mmol／L的巯基乙酸(MA)水溶液中20 取出后用二次蒸馏水仔细清洗以除去物理吸附的物质，得到MA修饰电极(MA／Au) mmol／L 之后，浸入到10 min，取出冲洗干净，然后将 NiCl2或(CoCl2)水溶液中30 mmol／L 电极转移到10 min，即得单层的铁氰酸镍／钴 K3Fe(CN)6水溶液中，浸泡30 (NiHCF／coHCF)膜。重复上述过程便可得到所需层数的多层膜修饰电极。 首先考察了该修饰膜的性质：(1)研究了不同层数的多层膜(以NiHCF为例) 在O．1 原峰电流也在增加，表明NiHCF在电极上是以层层增长的方式沉积。以的氧化峰为 例，蜂电流与多层膜层数呈现良好的线性关系，说明了NiHCF多层膜是均匀增长的。 mol／L (2)还考察了以NiHCF为例8层膜修饰电极在0．1KCI溶液中的CV电流与 mV／s范围内，NiHCF的峰电流随扫速的增加而增加，且峰 扫速的关系。在10—100 电流与扫速呈正比关系，说明此电极过程在该扫速范围内是受表面控制的。(3)根据 ，1 nPA 增加，r逐渐降低，说明扫速越大，电极反应的可逆性越差；随修饰膜层数的增加，r 逐渐升高，这也说明了膜的层层增长。 然后研究了该修饰膜电极在电分析方面的应用：实验证明，铁氰化物多层膜对 不同阳离子支持电解质有不同的选择透过性，且支持电解质的浓度也会对铁氰化物膜 ’通讯联系人：email：lilvquiy@vahoo．cgm．cn；Tel：0378-3881589 244 第十届令罔电分析化学会议论文集 基础电分析化学理论与J赶用 ’的CV图造成影响。进～步的研究结果表明，铁氰化物多层膜修饰电极对不同阳离子 (Na+，K+，NI-h+)具有选择性识别作用尤其对K+存在能斯特响应，并且其在这些 mV， 电解质中的稳定性为：K+Na+NH4+。K+浓度每增加10倍，峰电位正移约54 这与单电子转移过程中的理论值59mV相近，表明此类修饰膜的电化学过程中伴随 着一个K+和一个电子的转移，该电极可用作K+的电位传感器。另外，NiHCF／CoHCF 修饰电极对AA和$20；2’的氧化都具有较好的电催化性能，随着其浓度的增加，氧化 峰电流明显升高而还原峰电流降低，且氧化峰电流与其浓度呈良好的线性关系，表明 该电极可用作AA和$20，2。的电化学传感器。 结论：通过层层组装方法制备了铁氰化物多层膜修饰电极。该膜电极可用于K+ 的电位传感、AA及$20，2‘的电催化氧化。该修饰电极不仅稳定性好，而且可通过调 节膜的厚度