TiN粉末的制备方法.pdfVIP

2011年10月 386—-389 一／^l／A厂IH确UQ蔓LA-iL．蛙,＼O 第45卷第5期 TiN粉末的制备方法 李吉利 蒋明学 西安建筑科技大学材料科学与工程学院 陕西西安710055 摘要简要介绍了TiN的性能及主要用途，分析和阐述了TiN粉末制备的研究现状及发展趋势，重点讨论了 碳热还原氮化合成TiN粉末存在的问题和前景。 关键词TiN粉末，制备，碳热还原氮化法，CVD法，直接氮化法 。 TiN由于熔点高，化学稳定，耐腐蚀性强，导电性 表1直接氮化法研究情况 好，与金属材料相容，已不断应用于高级耐火材料、特 种刀具、高级装饰材料、高温导电材料以及电触点和 673 钛粉氮化(。2】钛粉 N2 电热1273-1K TiN细粉 金属表面的被覆材料，近年来在冶金工业中作为钢铁 氢钛氮化[3]Ti82N2 电热≤1273K TiN粉末 材料的增强剂而使其应用规模达到前所未有的水平， SHS【4-6]Ti TiN N2 自热高温 并展现出巨大的发展前景。然而，TiN合成粉末的成 N2等离子【7-91钛蒸气N2 直流电弧 TiN微细粉 本及合成规模是主要问题。一种大规模低成本的合 氢等离子1m]钛蒸气N2 高温电弧I553K 纳米TiN颗粒 成工艺是实际生产中迫切需要开发的。为此，有必要 机械化学…一14]Ti粉N2／NH3高能球磨 超细或纳米TiN 对现有方法进行客观的总结和分析，以明确进一步发 液氮放电m】TiNH3 放电I200℃ TiNl_，+Ti 展的方向。 放电[16】TiNH3 放电I200℃ TiNI一，+Ti 1．3 CVD法 1 TiN粉末合成方法概述 此方法以TiCI。为主要原料，通过钠、锂、氢等为 TiN合成方法报道很多，但如果从所用原料来分 还原剂进行还原，在氮气或氨气气氛中反应合成 析，所有报道的方法可分为3大类，即直接氮化法、热 TiN。表3给出了CVD合成FiN的研究情况。 还原氮化法和CVD法。实际上CVD法也是一种热 1．4 TiN合成方法现状分析 还原氮化法，但已经习惯地称为CVD法。 从表l一3中各种TiN粉末制备方法可以看出， l。1直接氮化法 从反应物上看，目前所使用的起始物依据钛源主要分 直接氮化法通常是利用Ti粉或Till：粉与氮气或 为3类：第一类为钛粉或氢化钛粉，此时N：或NH，均 氨反应生成TiN粉末。此工艺方法采用纯钛粉或氢 可作为氮源；第二类为TiO：，N2或NH，均可作为氮 化钛粉原料，需要加热到一定的温度反应才开始进 源，但需要还原剂；第三类为TiCl。液体或气体，N：或 行，但是反应过程常伴随大量